LENJEX 工业清洁
光学器件和镜片超声波清洗
温和的超声波清洗可去除光学元件上的抛光剂、颗粒和指纹，而不会刮伤涂层表面。
- 去除抛光剂和细颗粒
- 温和、非接触式清洁涂层表面
- 更高的频率可以保护精密的光学器件
- 吹扫和脱气以实现均匀的空化
- 可重复清洁以实现精密生产
典型工件
本应用中的部分
- 透镜和棱镜
- 光学窗口和镜子
- 过滤器和涂层组件
- 相机和仪器光学
- 镜头组件和安装座
- 小型玻璃光学零件
污染
待评估的土壤
- 抛光研磨剂
- 沥青和蜡残留物
- 细颗粒和灰尘
- 指纹和处理油
- 清洁和涂层残留物
清洁度目标
选择设备之前定义清洁
验收基于对颗粒、雾度、污迹和涂层完整性的目视或放大检查。
干燥必须无条纹且适合涂层表面。
推荐顺序
评估的工艺路线
最终顺序取决于土壤负载、材料、漂洗质量和干燥行为。
- 步骤1验证涂层兼容性和频率
- 步骤2温和的超声波清洗可去除抛光剂和颗粒
- 步骤3仔细冲洗阶段
- 步骤4无条纹干燥和受控处理
- 验证检查雾度、颗粒和涂层状况
推荐设备
比较系统
最终规格遵循过程测试和生产分析。
过程控制
控制改变清洁结果的变量
在固定设备设置之前确认零件、土壤、负载和最终处理。
控制01
材料和几何形状
记录可能滞留空气或液体的表面、空腔和特征。
控制02
土壤状况
测试最重的代表性污染，而不是理想的样品。
控制03
篮式装载
保持声学通道和零件间距与生产一致。
控制04
冲洗并干燥
将下游处理与残留物和腐蚀风险相匹配。
系统选型
将清洁路线与生产流程相匹配
阶段计数和自动化遵循经过验证的流程和所需的输出。
批次
单罐路线
比较集中洗涤，其中漂洗和干燥是分开管理的。
多级
清洗、漂洗并干燥
当残留和最终条件很重要时，添加受控阶段。
自动
可重复传输
当输出、处理或配方控制需要时评估自动化。
验收
定义如何检查已清洁的零件
对试制样品和生产零件使用相同的实用检验方法。
- 同意表面或残留限度
- 检查隐藏和困难的功能
- 记录冲洗、干燥和处理条件
- 在进行下一步操作之前比较结果
代表审判
使用真实零件和负载确认流程
试验证据应涵盖正常生产和最困难的预期条件。
- 描述零件、材料和污染。
- 负载使用现实的间距和方向。
- 测试记录化学成分、时间和温度。
- 验证按约定的方法进行检查。
应用问题
规划清洁研究
包括正常的生产零件和最困难的预期几何形状或污染，因此该过程不是基于简单的样品。
提供零件尺寸、材料、土壤、清洁度目标、每个负载的零件、所需的输出和可用的公用设施。
如果频率或化学反应过于激烈，则可能会出现这种情况。 LENJEX 使用代表性零件验证涂层组件，以确认温和、无损坏的清洁。
光学元件通常使用更高、更温和的频率，并进行扫描和脱气以确保均匀的空化。
通过受控的冲洗、相容的化学物质和适当的干燥，与涂层和部件的几何形状相匹配。
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