Nettoyeurs à ultrasons de paillasse et de laboratoire
Nettoyeur à ultrasons de laboratoire avec dégazage et balayage
Bain à ultrasons de laboratoire scientifique avec dégazage, balayage et contrôle précis
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LENJEX Nettoyage Industriel
Pièces et accessoires pour semi-conducteurs Nettoyage par ultrasons
Nettoyage doux et contrôlé des pièces, supports et outils semi-conducteurs, où les particules fines et l'intégrité de la surface sont essentielles.
Pourquoi les ultrasons
Nettoyage par ultrasons pour composants semi-conducteurs
La fabrication de semi-conducteurs et ses outillages nécessitent un contrôle très fin des particules et une énergie douce pour protéger les surfaces. Le nettoyage par ultrasons contrôlé à haute fréquence élimine les particules fines et les résidus des supports, des fixations et des pièces compatibles sans la forte implosion d'un bain basse fréquence.
Le nettoyeur à ultrasons de laboratoire, avec dégazage et balayage, et le nettoyeur multifréquence sont utilisés pour ces tâches ; la fréquence et la chimie sont soigneusement examinées. Le travail concerne nettoyage de précision en salle blanche et contrôle de propreté précis.
La compatibilité, les limites de particules et la manipulation dans un environnement contrôlé sont confirmées avant que l'équipement ne soit spécifié.
- Élimination des particules fines avec une énergie contrôlée
- Des fréquences douces qui protègent les surfaces
- Balayage et dégazage pour une cavitation uniforme et constante
- Convient aux supports, luminaires et pièces compatibles
- Cycles répétables pour une production contrôlée
Pièces typiques
Pièces dans cette application
- Supports de plaquettes et cassettes
- Accessoires et outillage de processus
- Pièces usinées avec précision
- Composants en céramique et en quartz
- Boucliers et plateaux métalliques
- Petits assemblages compatibles
Contamination
Sols à évaluer
- Particules fines et poussières
- Résidus de processus
- Empreintes digitales et manipulation de la contamination
- Résidus de polissage et de rodage
- Huiles et films organiques
Objectif de propreté
Définir le nettoyage avant de choisir l’équipement
L'acceptation est basée sur le nombre de particules et l'inspection de la surface appropriée à l'environnement contrôlé.
La manipulation, le rinçage et le séchage sont gérés pour éviter la recontamination après nettoyage.
Séquence recommandée
Un parcours de processus pour l’évaluation
La séquence finale dépend de la charge en saleté, du matériau, de la qualité du rinçage et du comportement au séchage.
- Étape 1Dégazez le liquide frais et sélectionnez une haute fréquence
- Étape 2Lavage doux par ultrasons pour éliminer les particules fines
- Étape 3Étapes de rinçage contrôlées
- Étape 4Sécher et manipuler dans un environnement contrôlé
- VérifierVérifier le nombre de particules et l'état de la surface
Équipement recommandé
Systèmes à comparer
La spécification finale fait suite aux tests de processus et à l'analyse de la production.
Nettoyeurs de paillasse
Nettoyeur à ultrasons de paillasse bifréquence/multifréquence
Une gamme de paillasse de 6,5 à 45 L avec deux modes de fréquence ultrasonique pleine puissance sélectionnables pour un nettoyage grossier et fin dans un seul bain.
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Systèmes de nettoyage multi-réservoirs et automatiques
Système à ultrasons multi-étapes pour nettoyer, rincer et sécher
Système compact de lavage, de rinçage et de séchage par ultrasons à plusieurs étapes
Afficher la configurationContrôles de processus
Contrôler les variables qui modifient le résultat du nettoyage
Confirmez la pièce, le sol, le chargement et la manipulation finale avant de fixer les paramètres de l'équipement.
Contrôle 01
Matériau et géométrie
Enregistrez les surfaces, les cavités et les caractéristiques qui peuvent emprisonner de l'air ou des liquides.
Contrôle 02
État du sol
Testez la contamination représentative la plus importante, et non un échantillon idéal.
Contrôle 03
Chargement du panier
Gardez l’accès acoustique et l’espacement des pièces cohérents avec la production.
Contrôle 04
Rincer et sécher
Adaptez la manutention en aval aux risques de résidus et de corrosion.
Sélection du système
Adaptez l’itinéraire de nettoyage au flux de production
Le nombre d’étapes et l’automatisation suivent le processus validé et le résultat requis.
Lot
Itinéraire avec un seul réservoir
Comparez pour un lavage ciblé où le rinçage et le séchage sont gérés séparément.
Multi-étapes
Laver, rincer et sécher
Ajoutez des étapes contrôlées lorsque le report et l’état final sont importants.
Automatique
Transfert répétable
Évaluez l’automatisation lorsque la sortie, la manipulation ou le contrôle des recettes l’exigent.
Acceptation
Définir comment la pièce nettoyée sera vérifiée
Utilisez la même méthode d’inspection pratique pour les échantillons d’essai et les pièces de production.
- Convenir de la limite de surface ou de résidus
- Vérifiez les fonctionnalités cachées et difficiles
- Enregistrer les conditions de rinçage, de séchage et de manipulation
- Comparez les résultats avant la prochaine opération
Essai représentatif
Confirmez le processus avec des pièces et des charges réelles
Les preuves d'essai doivent couvrir la production normale et les conditions attendues les plus difficiles.
- DécrirePièce, matériau et contamination.
- ChargerUtilisez un espacement et une orientation réalistes.
- TesterEnregistrez la chimie, le temps et la température.
- VérifierInspectez avec la méthode convenue.
Questions de candidature
Planification de l'étude de nettoyage
Incluez les pièces de production normales et la géométrie ou la contamination attendue la plus difficile afin que le processus ne soit pas basé sur un échantillon facile.
Fournissez les dimensions des pièces, le matériau, le sol, l'objectif de propreté, les pièces par charge, la production requise et les utilitaires disponibles.
Des fréquences plus élevées et plus douces sont préférées pour les particules fines et les surfaces sensibles, tandis que le balayage et le dégazage supportent même la cavitation ; le réglage exact est adapté à la pièce.
Cet équipement est destiné aux supports, accessoires, outillages et pièces compatibles ; le nettoyage direct des tranches nécessite des processus de semi-conducteurs spécifiques à un usage spécifique qui ne font pas partie de cet équipement général.
Grâce à un rinçage contrôlé, un séchage complet et une manipulation dans un environnement contrôlé, avec inspection et manipulation des échantillons convenues.
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