پاک کننده های نیمکت
پاک کننده التراسونیک دیجیتال میز برای تمیز کردن دقیق آزمایشگاهی و دسته ای کوچک
محدوده نیمکت حرفه ای 2-45 لیتری با کنترل دیجیتالی زمان، دما و توان برای استفاده در آزمایشگاه، کارگاه و دسته کوچک.
مشاهده پیکربندی
مرکز راه حل LENJEX
شار، رزین و بقایای یونی را از مدارهای لحیم کاری شده با فرکانس کنترل شده و شیمی سازگار حذف می کند.
نمای کلی
باقیمانده های شار بر قابلیت اطمینان تأثیر می گذارد.
پس از لحیم کاری، فلاکس و رزین می توانند لایه های قابل مشاهده و بقایای یونی باقی بگذارند که باعث خوردگی، نشت و چسبندگی پوشش ضعیف می شود. تمیز کردن اولتراسونیک به زیر اجزا و بین سرنخ ها می رسد تا این باقیمانده ها به طور مداوم حذف شود.
د-شار سازگار محلول تمیز کننده و انرژی کنترل شده از مجموعه محافظت می کند و به دنبال آن خشک می شود. ببینید تمیز کردن الکترونیک و PCB.
ملاحظات فرآیند
ابتدا شیمی و سازگاری اجزاء
فلاکس های کلوفون، بدون تمیز کردن و محلول در آب باقیمانده های متفاوتی بر جای می گذارند.
شیمی دی شار یا حلال سازگار برای شار و تخته انتخاب شده است.
فرکانس، انرژی و قرار گرفتن در معرض برای محافظت از اجزای حساس کنترل می شود.
خشک شدن کامل رطوبت زیر اجزا را قبل از پوشش از بین می برد.
مسیر پیشنهادی
با تابلوی واقعی تایید شده است.
سیستم های مرتبط
سیستم های رومیزی تا فشرده.
پاک کننده های نیمکت
محدوده نیمکت حرفه ای 2-45 لیتری با کنترل دیجیتالی زمان، دما و توان برای استفاده در آزمایشگاه، کارگاه و دسته کوچک.
مشاهده پیکربندی
پاک کننده های التراسونیک رومیزی و آزمایشگاهی
حمام اولتراسونیک آزمایشگاهی علمی با گاز زدایی، جارو کردن و کنترل دقیق
مشاهده پیکربندی
پاک کننده های صنعتی تک مخزن و ویژه
تمیز کردن و خشک کردن اولتراسونیک خلاء با هیدروکربن یا حلال الکل اصلاح شده
مشاهده پیکربندیراه حل سوالات
بله. کاویتاسیون کنترل شده با شیمی دشار، رزین و بقایای یونی زیر اجزا را حذف می کند و به دنبال آن خشک می شود.
د-شار مبتنی بر آب رایج است. سیستم های حلال یا خلاء در مواردی که آب نامناسب است یا خشک کردن مشکل است استفاده می شود.
انرژی و فرکانس کنترل می شود و سازگاری با برد واقعی قبل از تولید تایید می شود.
راه حل های مرتبط
محلول تمیز کردن
تمیز کردن کنترل شده و با فرکانس بالا برای قطعات دقیق در محیط های تمیز، با محدودیت ذرات و جابجایی معتبر.
مشاهده راه حل
محلول تمیز کردن
آبکشی مواد شوینده و ذرات را از بین می برد و خشک کردن از آثار آب و خوردگی به خصوص در حفره ها و سوراخ های کور جلوگیری می کند.
مشاهده راه حل
محلول تمیز کردن
تمیز کردن اولتراسونیک مبتنی بر آب از شوینده های قلیایی، خنثی یا اسیدی برای حذف روغن، ذرات و اکسیدها با شیمی کنترل شده استفاده می کند.
مشاهده راه حل