Multi-stage rinsing at drying system

LENJEX Solution Center

Mga Solusyon sa Pagbanlaw at Pagpapatuyo

Ang pagbanlaw ay nag-aalis ng detergent at mga particle, at ang pagpapatuyo ay pinipigilan ang mga marka ng tubig at kaagnasan, lalo na sa mga cavity at blind hole.

Pangkalahatang-ideya

Bakit ang pagbabanlaw at pagpapatuyo ay bagay

Ang paghuhugas ay hindi kumpleto nang walang kontroladong banlawan at tuyo.

Ang pagbanlaw ay nag-aalis ng detergent, natunaw na lupa at mga pinong particle na dinadala mula sa hugasan; pinipigilan ng pagpapatayo ang mga marka ng tubig, mga batik at kaagnasan. Para sa mga kumplikadong bahagi, ang mga cavity ay may hawak na likido na hindi maalis ng air drying, kaya naman ang pamamaraan ay itinugma sa geometry.

A malinis-banlawan-tuyo na sistema nagbibigay ng mga yugtong ito sa isang compact na linya, habang mga sistema ng vacuum magdagdag ng vacuum drying para sa mga blind hole.

Mga Pagsasaalang-alang sa Proseso

Banlawan at tuyo ang mga desisyon

Tinutukoy ng geometry at kalinisan ang mga yugto.

Inirerekomendang Ruta

Isang banlawan-at-tuyo na ruta

Itugma sa mga cavities ng bahagi.

  1. HugasanKumpletuhin ang yugto ng paghuhugas ng ultrasonic
  2. BanlawanMag-apply ng isa o higit pang mga yugto ng banlawan
  3. CounterflowGumamit ng counterflow na banlawan para sa mahigpit na kalinisan
  4. tuyoHot-air o vacuum dry cavities
  5. I-verifySuriin kung may mga batik at nalalabi

Mga Kaugnay na Sistema

Kagamitan para sa banlawan at tuyo

Compact sa multi-stage.

Mga Tanong sa Solusyon

Pagpaplano ng aplikasyon

Mga Kaugnay na Solusyon

Tuklasin ang mga kaugnay na problema sa paglilinis

Multi-Stage na Paglilinis

Solusyon sa Paglilinis

Multi-Stage na Paglilinis

Ang isang paliguan ay hindi palaging makakapaghatid ng mababang carryover, kalidad ng huling banlawan at mga tuyong bahagi. Dapat suportahan ng pagkakasunod-sunod ng yugto ang panghuling kinakailangan sa pagtanggap.

Tingnan ang solusyon
Precision Cleanliness Control

Solusyon sa Paglilinis

Precision Cleanliness Control

Maaaring magmukhang malinis ang isang bahagi habang nananatili ang mga pinong particle, ionic residue o light film. Ang tumpak na paglilinis ay nangangailangan ng masusukat na target at kinokontrol na mga huling yugto.

Tingnan ang solusyon