Benchtop at Laboratory Ultrasonic Cleaners
Laboratory Ultrasonic Cleaner na may Degas & Sweep
Scientific lab ultrasonic bath na may degas, sweep at tumpak na kontrol
Tingnan ang configuration
LENJEX Solution Center
Cleanroom Precision Cleaning
Kinokontrol, mataas na dalas ng paglilinis para sa katumpakan ng mga bahagi sa malinis na kapaligiran, na may mga limitasyon ng particle at napatunayang paghawak.
Pangkalahatang-ideya
Mga kinakailangan sa katumpakan sa paglilinis
Mga limitasyon ng butil at napatunayang mga cycle.
Ang precision at cleanroom work ay nag-aalis ng mga pinong particle at residues sa tinukoy na mga limitasyon, na may kontroladong enerhiya, mataas na frequency, sweep at degas at maingat na paghawak upang maiwasan ang recontamination. Ang proseso ay dokumentado at napatunayan para sa mga nauulit na resulta.
Ang panlinis ng ultrasonic sa laboratoryo at multi-frequency cleaner suportahan ang mga gawaing ito, madalas sa a malinis-banlawan-tuyo na linya.
Mga Pagsasaalang-alang sa Proseso
Mga desisyon sa katumpakan
Kontrol at pagpapatunay ng particle.
Ang pagtanggap ay isang binibilang o gravimetric na limitasyon ng particle at residue check.
- Bilang ng particle
- Gravimetric inspeksyon
- Mga pagsusuri sa nalalabi
Pinoprotektahan ng banayad, mas mataas na frequency at sweep ang mga sensitibong ibabaw.
- Walisan at degas
- Mas mataas na dalas
- Kinokontrol na enerhiya
Ang kalidad ng banlawan at pagsasala ay tumutukoy sa panghuling antas ng butil.
- Na-filter na banlawan
- Kalidad ng tubig
- Multi-stage na banlawan
Ang pagpapatuyo at paghawak ay pumipigil sa recontamination sa kinokontrol na kapaligiran.
- Kinokontrol na pagpapatayo
- Malinis na paghawak
- Mga dokumentadong cycle
Inirerekomendang Ruta
Isang tumpak na ruta
Napatunayan at naidokumento.
- DegasDegas at pumili ng mataas na frequency
- HugasanMagiliw na paghuhugas ng ultrasonic
- BanlawanNa-filter na multi-stage na banlawan
- tuyoKinokontrol na pagpapatayo
- I-verifyI-verify ang mga limitasyon ng particle
Mga Kaugnay na Sistema
Kagamitan para sa tumpak na paglilinis
Kinokontrol at napatunayan.
Mga Tagalinis ng Benchtop
Dual-Frequency / Multi-Frequency Benchtop Ultrasonic Cleaner
Isang 6.5-45 L na hanay ng benchtop na may dalawang mapipili, full-power na ultrasonic frequency mode para sa magaspang at pinong paglilinis sa isang paliguan.
Tingnan ang configuration
Multi-Tank at Awtomatikong Cleaning System
Clean-Rinse-Dry Multi-Stage Ultrasonic System
Compact multi-stage ultrasonic wash, banlawan at drying system
Tingnan ang configurationMga Tanong sa Solusyon
Pagpaplano ng aplikasyon
Ito ay isang kontrolado, napatunayang proseso na nag-aalis ng mga pinong particle at nalalabi sa tinukoy na mga limitasyon, kadalasan sa isang kontroladong kapaligiran na may sweep at degas.
Karaniwang ginagamit ang banayad at mas mataas na mga frequency, na may sweep at degas upang matiyak ang pantay na cavitation at protektahan ang mga ibabaw.
Sa pamamagitan ng na-filter na pagbabanlaw, kinokontrol na pagpapatuyo at malinis na paghawak sa kinokontrol na kapaligiran, na may mga dokumentadong cycle.
Mga Kaugnay na Solusyon
Tuklasin ang mga kaugnay na problema sa paglilinis
Solusyon sa Paglilinis
Precision Cleanliness Control
Maaaring magmukhang malinis ang isang bahagi habang nananatili ang mga pinong particle, ionic residue o light film. Ang tumpak na paglilinis ay nangangailangan ng masusukat na target at kinokontrol na mga huling yugto.
Tingnan ang solusyon
Solusyon sa Paglilinis
Pag-alis ng Flux at Rosin
Nag-aalis ng mga flux, rosin at ionic na nalalabi mula sa mga soldered circuit board na may kontroladong dalas at katugmang kimika.
Tingnan ang solusyon Solusyon sa Paglilinis
Mga Solusyon sa Pagbanlaw at Pagpapatuyo
Ang pagbanlaw ay nag-aalis ng detergent at mga particle, at ang pagpapatuyo ay pinipigilan ang mga marka ng tubig at kaagnasan, lalo na sa mga cavity at blind hole.
Tingnan ang solusyon