Benchtop at Laboratory Ultrasonic Cleaners
Laboratory Ultrasonic Cleaner na may Degas & Sweep
Scientific lab ultrasonic bath na may degas, sweep at tumpak na kontrol
Tingnan ang configuration
LENJEX Industrial Cleaning
Magiliw, kontroladong paglilinis ng mga bahagi ng semiconductor, carrier at tooling, kung saan kritikal ang mga pinong particle at integridad ng ibabaw.
Bakit Ultrasonic
Ang paggawa ng semiconductor at ang tooling nito ay nangangailangan ng napakahusay na kontrol ng particle at banayad na enerhiya upang maprotektahan ang mga ibabaw. Ang mas mataas na dalas, at kinokontrol na ultrasonic cleaning ay nag-aalis ng mga pinong particle at nalalabi mula sa mga carrier, fixture at mga tugmang bahagi nang walang malakas na pagsabog ng isang low-frequency na paliguan.
Ang panlinis ng ultrasonic sa laboratoryo, na may degas at sweep, at ang multi-frequency cleaner ay ginagamit para sa mga gawaing ito; ang dalas at kimika ay sinusuri nang mabuti. Ang gawain ay nauugnay sa paglilinis ng katumpakan ng cleanroom at tumpak na kontrol sa kalinisan.
Ang pagiging tugma, mga limitasyon ng particle at paghawak sa isang kinokontrol na kapaligiran ay nakumpirma bago tinukoy ang kagamitan.

Mga Karaniwang Workpiece
Kontaminasyon

Target ng Kalinisan
Ang pagtanggap ay batay sa mga bilang ng particle at inspeksyon sa ibabaw na naaangkop sa kinokontrol na kapaligiran.
Ang paghawak, pagbabanlaw at pagpapatuyo ay pinangangasiwaan upang maiwasan ang muling pagdumi pagkatapos ng paglilinis.
Inirerekomendang Pagkakasunud-sunod
Ang huling pagkakasunud-sunod ay nakasalalay sa pag-load ng lupa, materyal, kalidad ng banlawan at pag-uugali ng pagpapatuyo.
Inirerekomendang Kagamitan
Ang panghuling detalye ay sumusunod sa pagsubok sa proseso at pagsusuri sa produksyon.
Benchtop at Laboratory Ultrasonic Cleaners
Scientific lab ultrasonic bath na may degas, sweep at tumpak na kontrol
Tingnan ang configuration
Mga Tagalinis ng Benchtop
Isang 6.5-45 L na hanay ng benchtop na may dalawang mapipili, full-power na ultrasonic frequency mode para sa magaspang at pinong paglilinis sa isang paliguan.
Tingnan ang configuration
Multi-Tank at Awtomatikong Cleaning System
Compact multi-stage ultrasonic wash, banlawan at drying system
Tingnan ang configurationMga Kontrol sa Proseso
Kumpirmahin ang bahagi, lupa, pagkarga at huling paghawak bago ayusin ang mga setting ng kagamitan.
Kontrol 01
Itala ang mga ibabaw, mga lukab at mga tampok na maaaring mag-trap ng hangin o likido.
Kontrol 02
Subukan ang pinakamabigat na kinatawan ng kontaminasyon, hindi isang perpektong sample.
Kontrol 03
Panatilihing pare-pareho ang acoustic access at part spacing sa produksyon.
Kontrol 04
Itugma ang paghawak sa ibaba ng agos sa mga nalalabi at mga panganib sa kaagnasan.
Pagpili ng System
Ang bilang ng yugto at automation ay sumusunod sa napatunayang proseso at kinakailangang output.
Batch
Ihambing para sa nakatutok na paghuhugas kung saan ang pagbabanlaw at pagpapatuyo ay hiwalay na pinangangasiwaan.
Multi-stage
Magdagdag ng mga kinokontrol na yugto kapag mahalaga ang carryover at huling kundisyon.
Awtomatiko
Suriin ang automation kapag kailangan ito ng output, paghawak o kontrol sa recipe.
Pagtanggap
Gumamit ng parehong praktikal na paraan ng inspeksyon para sa mga sample ng pagsubok at mga bahagi ng produksyon.
Pagsubok ng Kinatawan
Dapat saklawin ng ebidensya ng pagsubok ang normal na produksyon at ang pinakamahirap na inaasahang kondisyon.
Mga Tanong sa Paglalapat
Isama ang mga normal na bahagi ng produksyon at ang pinakamahirap na inaasahang geometry o kontaminasyon upang ang proseso ay hindi nakabatay sa isang madaling sample.
Magbigay ng mga bahagi ng sukat, materyal, lupa, target sa kalinisan, mga bahagi sa bawat pagkarga, kinakailangang output at magagamit na mga kagamitan.
Mas mataas, mas banayad na mga frequency ay ginustong para sa pinong particle at sensitibong ibabaw, habang sweep at degas sumusuporta kahit cavitation; ang eksaktong setting ay tumutugma sa bahagi.
Ang kagamitang ito ay nakadirekta sa mga carrier, fixtures, tooling at mga katugmang bahagi; Ang direktang paglilinis ng wafer ay nangangailangan ng mga proseso ng semiconductor na partikular sa layunin na nasa labas ng pangkalahatang kagamitang ito.
Sa pamamagitan ng kinokontrol na pagbabanlaw, kumpletong pagpapatuyo at paghawak sa isang kontroladong kapaligiran, na may napagkasunduang inspeksyon at paghawak ng sample.
Mga Kaugnay na Aplikasyon
Industrial Application
Ang ultrasonic cleaning ay nag-aalis ng flux, rosin at ionic residues mula sa mga naka-print na circuit board at electronic assemblies, na may kontroladong dalas at katugmang kimika.
Tingnan ang diskarte sa paglilinis
Industrial Application
Ang banayad na paglilinis ng ultrasonic ay nag-aalis ng buli na compound, mga particle at mga fingerprint mula sa mga optical na bahagi nang walang scratching coated surface.
Tingnan ang diskarte sa paglilinis
Industrial Application
Ang tumpak na paglilinis ay kinokontrol ng laki ng butil, pagiging sensitibo sa ibabaw, kalidad ng banlawan, kondisyon ng paliguan at paghawak pagkatapos ng paghuhugas.
Tingnan ang diskarte sa paglilinis