Limpadores ultrassônicos de bancada e laboratório
Limpador ultrassônico de laboratório com desgaseificação e varredura
Banho ultrassônico de laboratório científico com desgaseificação, varredura e controle preciso
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LENJEX Limpeza Industrial
Limpeza suave e controlada de peças semicondutoras, transportadores e ferramentas, onde partículas finas e integridade da superfície são essenciais.
Por que ultrassônico
A fabricação de semicondutores e suas ferramentas exigem controle de partículas muito finas e energia suave para proteger as superfícies. A limpeza ultrassônica controlada de alta frequência remove partículas finas e resíduos de transportadores, acessórios e peças compatíveis sem a forte implosão de um banho de baixa frequência.
O limpador ultrassônico de laboratório, com desgaseificação e varredura, e o limpador multifrequencial são usados para essas tarefas; frequência e química são revisadas cuidadosamente. O trabalho diz respeito limpeza de precisão em salas limpas e controle de limpeza de precisão.
A compatibilidade, os limites de partículas e o manuseio em ambiente controlado são confirmados antes da especificação do equipamento.

Peças de trabalho típicas
Contaminação

Meta de limpeza
A aceitação é baseada na contagem de partículas e na inspeção de superfície apropriada ao ambiente controlado.
O manuseio, o enxágue e a secagem são gerenciados para evitar a recontaminação após a limpeza.
Sequência recomendada
A sequência final depende da carga do solo, do material, da qualidade do enxágue e do comportamento de secagem.
Equipamento Recomendado
A especificação final segue testes de processo e análise de produção.
Limpadores ultrassônicos de bancada e laboratório
Banho ultrassônico de laboratório científico com desgaseificação, varredura e controle preciso
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Limpadores de bancada
Uma linha de bancada de 6,5 a 45 L com dois modos de frequência ultrassônica selecionáveis e de potência total para limpeza grossa e fina em um banho.
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Sistemas de limpeza automática e multitanque
Sistema compacto de lavagem, enxágue e secagem ultrassônico de vários estágios
Ver configuraçãoControles de Processo
Confirme a peça, solo, carregamento e manuseio final antes de fixar as configurações do equipamento.
Controle 01
Registre superfícies, cavidades e características que possam reter ar ou líquidos.
Controle 02
Teste a contaminação representativa mais pesada, não uma amostra ideal.
Controle 03
Mantenha o acesso acústico e o espaçamento entre peças consistentes com a produção.
Controle 04
Combine o manuseio posterior com os riscos de resíduos e corrosão.
Seleção do Sistema
A contagem de estágios e a automação seguem o processo validado e a saída necessária.
Lote
Compare com a lavagem concentrada, onde o enxágue e a secagem são gerenciados separadamente.
Multiestágio
Adicione estágios controlados quando a transferência e a condição final forem importantes.
Automático
Avalie a automação quando a produção, o manuseio ou o controle de receitas assim o exigirem.
Aceitação
Use o mesmo método prático de inspeção para amostras de teste e peças de produção.
Julgamento Representativo
As evidências do ensaio devem abranger a produção normal e a condição esperada mais difícil.
Perguntas de aplicação
Inclui peças de produção normal e geometria ou contaminação esperada mais difícil para que o processo não seja baseado em uma amostra fácil.
Forneça dimensões das peças, material, solo, meta de limpeza, peças por carga, produção necessária e utilidades disponíveis.
Frequências mais altas e suaves são preferidas para partículas finas e superfícies sensíveis, enquanto a varredura e a desgaseificação suportam cavitação uniforme; a configuração exata corresponde à peça.
Esses equipamentos são direcionados a transportadores, fixações, ferramentais e peças compatíveis; a limpeza direta de wafer requer processos de semicondutores específicos para uma finalidade que estão fora deste equipamento geral.
Através de enxágue controlado, secagem completa e manuseio em ambiente controlado, com inspeção e manuseio de amostras acordados.
Aplicativos Relacionados
Aplicação Industrial
A limpeza ultrassônica remove fluxo, breu e resíduos iônicos de placas de circuito impresso e conjuntos eletrônicos, com frequência controlada e química compatível.
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Aplicação Industrial
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