الټراسونک پاکول د کنټرول شوي انرژي او بشپړ وچولو سره د بورډونو څخه فلکس او ایونیک پاتې شونه لرې کوي.
فلکس او rosin
سولډر شوي تختې کولی شي د راسین او ایونیک پاتې شونو لیږدوي چې اعتبار او کوټ اغیزه کوي. کنټرول شوي cavitation د اجزاو لاندې ته رسیږي ترڅو د دوی لرې کړي.
د فلوکس کیمیا د فلکس ډول لپاره غوره شوی.
- د روزن جریان
- ionic پاتې شونو
- ذرات او د تیلو سمبالول
د انرژي کنټرول
فریکونسی، بریښنا او افشا کول د حساس اجزاو ساتلو لپاره کنټرول کیږي، او مطابقت لومړی د اصلي بورډ سره تایید شوی.
ځینې حساس مجلسونه د الټراساؤنډ لپاره مناسب ندي.
اوبه او محلول
د اوبو پر بنسټ ډی فلکس عام دی، پداسې حال کې چې محلول یا ویکیوم سیسټمونه کارول کیږي چیرې چې اوبه مناسب نه وي یا وچول ستونزمن وي.
د اورښت وړ محلول ارزانه تجهیزاتو ته اړتیا لري.
وچول او پوښل
بشپړ وچول، په شمول د لاندې اجزاوو په شمول، د ساختماني پوښ کولو دمخه اړین دي. پاتې شنه یا ionic پایله د دورې وروسته چک کیږي.
پروسه د تکرار لپاره مستند شوې ده.
چټک ځوابونه
په مکرر ډول پوښتل شوي پوښتنې
دا کولی شي حساس اجزا اغیزه وکړي که چیرې انرژي غیر کنټرول وي؛ مطابقت د اصلي بورډ سره تایید شوی او نرم ترتیبات کارول کیږي.
د اوبو پر بنسټ ډی فلکس عام دی. محلول یا ویکیوم سیسټمونه غوره کیږي کله چې اوبه مناسب نه وي یا وچول ستونزمن وي.
د اجزاو لاندې لندبل د نیمګړتیاوو او ضعیف پوښاک چپکولو لامل کیږي، نو بشپړ وچولو ته اړتیا ده.
