بنچټاپ کلینر
د لابراتوار او کوچني بیچ دقیق پاکولو لپاره ډیجیټل بینچټاپ الټراسونک کلینر
د 2-45 L مسلکي بینچ ټاپ رینج د ډیجیټل وخت ، تودوخې او بریښنا کنټرول سره د لابراتوار ، ورکشاپ او کوچني بیچ کارولو لپاره.
ترتیب وګورئ
د LENJEX حل مرکز
د فلکس او Rosin لرې کول
د کنټرول شوي فریکونسۍ او مناسب کیمیا سره د سولډر شوي سرکټ بورډونو څخه فلکس، راسین او ایونیک پاتې شونه لرې کوي.
کتنه
د سولډر وروسته پاکول
د فلکس پاتې شونه د اعتبار اغیزه کوي.
د سولډر کولو وروسته، فلکس او راسین کولی شي د لیدلو وړ فلمونو او ایونیک پاتې شونو څخه ووځي چې د زنګ، لیک او ضعیف کوټینګ چپکولو لامل کیږي. د الټراسونک پاکول د اجزاو لاندې او د لیډونو ترمینځ ته رسي ترڅو دا پاتې شنې په دوامداره توګه لرې کړي.
یو مطابقت لرونکی ډی فلکس د پاکولو حل او کنټرول شوی انرژي د مجلس ساتنه کوي، وروسته د بشپړ وچولو په واسطه. وګورئ برقیات او د PCB پاکول.
د پروسې په اړه نظرونه
د فلکس پریکړې
د کیمیا او اجزاو مطابقت لومړی.
Rosin، بې پاکه او په اوبو کې حل کېدونکي فلکسونه مختلف پاتې شونه پریږدي.
- روزین (RA/RMA)
- نه پاک پاتې پاتې دي
- په اوبو کې محلول کېدونکی جریان
د فلکس او تختې لپاره د ډی فلکس کیمیا یا مناسب محلول غوره شوی.
- د اوبو پر بنسټ de-flux
- د محلول پاکول
- بدل شوی الکول
فریکونسی، انرژی او افشا کول د حساسو اجزاوو د ساتنې لپاره کنټرولیږی.
- کنټرول شوي فریکونسۍ
- تایید شوی مطابقت
- نرم سایکلونه
بشپړ وچول د پوښ کولو دمخه د اجزاو لاندې رطوبت لرې کوي.
- په بشپړه توګه مینځل
- بشپړ وچول
- د پوښ کولو چمتووالی
وړاندیز شوی لار
د بې ځایه کیدو لاره
د اصلي بورډ سره تایید شوی.
- پیژنيد فلکس ډول او اجزاو پیژندل
- وینځلد ډی فلوکس کیمیا سره الټراسونک مینځل
- مینځلد مطابقت لرونکي میډیا سره مینځل
- وچد اجزاو لاندې په بشپړه توګه وچ کړئ
- تایید کړئionic او د لیدلو وړ پاتې شونو چک کړئ
اړوند سیسټمونه
د فلوکس لپاره تجهیزات
بنچټاپ د کمپیکٹ سیسټمونو لپاره.
بنچټاپ او لابراتوار الټراسونک کلینر
د لابراتوار الټراسونک کلینر د ډیګاس او سویپ سره
د ډیګاس ، سویپ او دقیق کنټرول سره ساینسي لابراتوار الټراسونک حمام
ترتیب وګورئ
صنعتي واحد ټانک او ځانګړي پاکونکي
د ویکیوم محلول الټراسونک پاکولو ماشین
د سیل شوي ویکیوم الټراسونک پاکول او د هایدرو کاربن یا ترمیم شوي الکول محلول سره وچول
ترتیب وګورئد حل پوښتنو
د غوښتنلیک پلان کول
هو. د de-flux کیمیا سره کنټرول شوي cavitation د اجزاو لاندې rosin او ionic پاتې شونه لرې کوي، وروسته د بشپړ وچولو سره.
د اوبو پر بنسټ ډی فلکس عام دی. محلول یا ویکیوم سیسټمونه کارول کیږي چیرې چې اوبه مناسب نه وي یا وچول ستونزمن وي.
انرژي او فریکونسۍ کنټرول کیږي او مطابقت د تولید دمخه د اصلي بورډ سره تایید کیږي.
اړونده حلونه
د پاکولو اړوند ستونزې وپلټئ
د پاکولو حل
د کلین روم دقیق پاکول
په پاک چاپیریال کې د دقیق برخو لپاره کنټرول شوي ، د لوړې فریکونسۍ پاکول ، د ذرو محدودیتونو او تایید شوي اداره کولو سره.
د حل لاره وګورئ
د پاکولو حل
د مینځلو او وچولو حلونه
مینځل صابون او ذرات لرې کوي، او وچول د اوبو د نښو او زنګونو مخه نیسي، په ځانګړې توګه په غارونو او ړندو سوریو کې.
د حل لاره وګورئ
د پاکولو حل
د اوبو پر بنسټ الټراسونیک پاکول
د اوبو پراساس الټراسونیک پاکول د کنټرول شوي کیمیا سره د تیلو ، ذرات او اکسایډونو لرې کولو لپاره الکلین ، غیر جانبدار یا تیزابي صابون کاروي.
د حل لاره وګورئ