Pembersih Ultrasonik Benchtop & Laboratorium
Pembersih Ultrasonik Laboratorium dengan Degas & Sapu
Pemandian ultrasonik laboratorium ilmiah dengan degas, sapuan, dan kontrol presisi
Lihat konfigurasi
Pembersihan Industri LENJEX
Pembersihan komponen, pembawa, dan perkakas semikonduktor secara lembut dan terkendali, yang mengutamakan partikel halus dan integritas permukaan.
Mengapa Ultrasonik
Pembuatan semikonduktor dan perkakasnya memerlukan kontrol partikel yang sangat halus dan energi yang lembut untuk melindungi permukaan. Pembersihan ultrasonik yang terkontrol dan berfrekuensi tinggi menghilangkan partikel halus dan residu dari pembawa, perlengkapan, dan komponen yang kompatibel tanpa ledakan kuat dari rendaman frekuensi rendah.
Itu pembersih ultrasonik laboratorium, dengan degas dan sapuan, dan pembersih multi-frekuensi digunakan untuk tugas-tugas ini; frekuensi dan kimia ditinjau dengan cermat. Pekerjaan itu berkaitan dengan pembersihan presisi ruang bersih dan kontrol kebersihan presisi.
Kompatibilitas, batasan partikel, dan penanganan dalam lingkungan terkendali dikonfirmasi sebelum peralatan ditentukan.

Benda Kerja Khas
Kontaminasi

Sasaran Kebersihan
Penerimaan didasarkan pada jumlah partikel dan pemeriksaan permukaan yang sesuai dengan lingkungan terkendali.
Penanganan, pembilasan dan pengeringan dilakukan untuk menghindari kontaminasi ulang setelah pembersihan.
Urutan yang Direkomendasikan
Urutan terakhir bergantung pada pemuatan tanah, bahan, kualitas pembilasan, dan perilaku pengeringan.
Peralatan yang Direkomendasikan
Spesifikasi akhir mengikuti pengujian proses dan analisis produksi.
Pembersih Ultrasonik Benchtop & Laboratorium
Pemandian ultrasonik laboratorium ilmiah dengan degas, sapuan, dan kontrol presisi
Lihat konfigurasi
Pembersih Meja
Rentang benchtop 6,5-45 L dengan dua mode frekuensi ultrasonik berdaya penuh yang dapat dipilih untuk pembersihan kasar dan halus dalam satu wadah.
Lihat konfigurasi
Sistem Pembersihan Multi-Tank & Otomatis
Sistem pencucian, pembilasan, dan pengeringan ultrasonik multi-tahap yang ringkas
Lihat konfigurasiKontrol Proses
Konfirmasikan komponen, tanah, pemuatan, dan penanganan akhir sebelum memperbaiki pengaturan peralatan.
Kontrol 01
Catat permukaan, rongga, dan fitur yang dapat memerangkap udara atau cairan.
Kontrol 02
Uji kontaminasi perwakilan terberat, bukan sampel ideal.
Kontrol 03
Jaga akses akustik dan jarak komponen tetap konsisten dengan produksi.
Kontrol 04
Sesuaikan penanganan hilir dengan risiko residu dan korosi.
Seleksi Sistem
Penghitungan tahapan dan otomatisasi mengikuti proses yang divalidasi dan keluaran yang diperlukan.
kumpulan
Bandingkan dengan pencucian terfokus yang pembilasan dan pengeringannya dilakukan secara terpisah.
Multi-tahap
Tambahkan tahapan terkontrol ketika sisa dan kondisi akhir penting.
Otomatis
Evaluasi otomatisasi ketika output, penanganan, atau kontrol resep memerlukannya.
Penerimaan
Gunakan metode inspeksi praktis yang sama untuk sampel uji coba dan komponen produksi.
Uji Coba Perwakilan
Bukti percobaan harus mencakup produksi normal dan kondisi tersulit yang diperkirakan.
Pertanyaan Aplikasi
Sertakan komponen produksi normal dan geometri atau kontaminasi yang diperkirakan paling sulit sehingga prosesnya tidak didasarkan pada sampel yang mudah.
Menyediakan dimensi suku cadang, material, tanah, target kebersihan, suku cadang per muatan, keluaran yang diperlukan, dan utilitas yang tersedia.
Frekuensi yang lebih tinggi dan lebih lembut lebih disukai untuk partikel halus dan permukaan sensitif, sementara sapuan dan degas mendukung kavitasi yang merata; pengaturan persisnya disesuaikan dengan bagiannya.
Peralatan ini ditujukan pada pembawa, perlengkapan, perkakas dan suku cadang yang kompatibel; pembersihan wafer langsung memerlukan proses semikonduktor khusus tujuan yang berada di luar peralatan umum ini.
Melalui pembilasan terkontrol, pengeringan menyeluruh dan penanganan dalam lingkungan terkendali, dengan inspeksi dan penanganan sampel yang disepakati.
Aplikasi Terkait
Aplikasi Industri
Pembersihan ultrasonik menghilangkan residu fluks, damar, dan ionik dari papan sirkuit tercetak dan rakitan elektronik, dengan frekuensi terkontrol dan bahan kimia yang kompatibel.
Lihat pendekatan pembersihan
Aplikasi Industri
Pembersihan ultrasonik yang lembut menghilangkan senyawa pemoles, partikel, dan sidik jari dari komponen optik tanpa menggores permukaan yang dilapisi.
Lihat pendekatan pembersihan
Aplikasi Industri
Pembersihan presisi dikontrol oleh ukuran partikel, sensitivitas permukaan, kualitas pembilasan, kondisi bak mandi, dan penanganan setelah pencucian.
Lihat pendekatan pembersihan