د قضیې مطالعه
د متحده ایالاتو فضایی اجزا جوړونکي لپاره د ویکیوم محلول پاکول
د دقیق فضا جوړونکي د ړندو سوري برخو او ویکیوم وچولو لپاره د ویکیوم محلول پاکول غوره کړل.
د قضیې مطالعه وګورئ
د LENJEX پروژې ریکارډ
د کوریا جوړونکي لپاره د آپټیکس پاکول
د آپټیکس جوړونکي د نرم پاکولو او د سټریک پاک وچولو سره د پالش کولو مرکب او ذرات لرې کړل.
ځایGyeonggi، کوریا
صنعتد نظری تولید
تجهیزاتLJ-LAB30 ملټي فریکونسی کلینر
کمیسیون شوی2026
د پروژې شرایط
په پوښل شویو برخو کې د پالش کولو مرکب
جوړونکي لیپ شوي لینزونه او کړکۍ بشپړې کړې او د پالش کولو مرکب ته اړتیا لري، ذرات او د ګوتو نښان پرته له دې چې کوټینګ اغیزه وکړي.
د LENJEX څخه مخکې
پوښونه او سټریکس
پوښل شوي سطحې نرمې انرژي ته اړتیا لري، او وچول باید د سټریک څخه پاک وي.
- د پالش کولو مرکب او ذرات
- د کوټینګ بشپړتیا
- د سټریک څخه پاک وچول
- د مساوي، نرم cavitation ته اړتیا
د پاکولو حل
د کنټرول شوي وچولو سره پاکول
LJ-LAB30 د ډیګاس او بې طرفه کیمیا سره د نرم لوړې فریکونسۍ سویپ کارولی ، وروسته له کنټرول شوي سټریک پاک وچولو سره.
د کوټینګ مطابقت د نمایندګۍ اجزاو سره تایید شوی.
د پروژې پایلې
د پاکولو پایلې او د پروسې پرمختګ
فعالیت د ورک پیس ، ککړتیا ، کیمیا ، بار کولو میتود او د منلو معیارونو پورې اړه لري.
- پایله 01د پالش کولو مرکب او ذرات پرته له دې چې د پوښ کولو زیان څخه لیرې شي
- پایله 02د وچولو وروسته د سټریک څخه پاک سطحونه
- پایله 03حتی د جارو او degas له لارې cavitation
- پایله 04د تکرار وړ دقیق تولید
اړونده قضیې مطالعات
ورته پروژې پرتله کړئ
د قضیې مطالعه
د ایټالوی ورکشاپ لپاره د زیورونو پاکول
د زیوراتو ورکشاپ د لاسي پالش کولو پرته په کمپیک بینچ ټاپ کلینر کې د پالش کولو مرکب او د پوټکي غوړ لرې کړل.
د قضیې مطالعه وګورئ
د قضیې مطالعه
د ویتنام د PCB جوړونکي لپاره د ډی فلوکس پاکول
د الکترونیکي توکو جوړونکي د کانفرمل کوټ کولو دمخه د سولډر شوي بورډونو څخه فلکس او ایونیک پاتې شونه لرې کړل.
د قضیې مطالعه وګورئ