नियंत्रित सफाई के लिए सटीक घटक

लेंजेक्स सॉल्यूशन सेंटर

क्लीनरूम परिशुद्ध सफाई

कण सीमा और मान्य हैंडलिंग के साथ स्वच्छ वातावरण में सटीक भागों के लिए नियंत्रित, उच्च आवृत्ति सफाई।

सिंहावलोकन

परिशुद्धता सफाई आवश्यकताएँ

कण सीमाएँ और मान्य चक्र।

नियंत्रित ऊर्जा, उच्च आवृत्ति, स्वीप और डीगैस और पुन: संदूषण से बचने के लिए सावधानीपूर्वक संचालन के साथ परिशुद्धता और सफाई कक्ष का काम महीन कणों और अवशेषों को परिभाषित सीमा तक हटा देता है। प्रक्रिया को दोहराए जाने योग्य परिणामों के लिए प्रलेखित और मान्य किया गया है।

द प्रयोगशाला अल्ट्रासोनिक क्लीनर और बहु-आवृत्ति क्लीनर इन कार्यों का समर्थन करें, अक्सर एक में साफ-कलाई-सूखी लाइन.

प्रक्रिया संबंधी विचार

सटीक निर्णय

कण नियंत्रण और सत्यापन.

अनुशंसित मार्ग

एक सटीक मार्ग

मान्य एवं प्रलेखित।

  1. डेगासडेगास और एक उच्च आवृत्ति का चयन करें
  2. धोनासौम्य अल्ट्रासोनिक धुलाई
  3. कुल्लाफ़िल्टर्ड मल्टी-स्टेज कुल्ला
  4. सूखानियंत्रित सुखाने
  5. सत्यापित करेंकण सीमा सत्यापित करें

संबंधित प्रणालियाँ

सटीक सफाई के लिए उपकरण

नियंत्रित एवं मान्य.

प्रयोगशाला अल्ट्रासोनिक क्लीनर

बेंचटॉप और प्रयोगशाला अल्ट्रासोनिक क्लीनर

डेगास और स्वीप के साथ प्रयोगशाला अल्ट्रासोनिक क्लीनर

डेगास, स्वीप और सटीक नियंत्रण के साथ वैज्ञानिक प्रयोगशाला अल्ट्रासोनिक स्नान

कॉन्फ़िगरेशन देखें
डुअल-फ़्रीक्वेंसी/मल्टी-फ़्रीक्वेंसी बेंचटॉप अल्ट्रासोनिक क्लीनर

बेंचटॉप क्लीनर

डुअल-फ़्रीक्वेंसी/मल्टी-फ़्रीक्वेंसी बेंचटॉप अल्ट्रासोनिक क्लीनर

एक स्नान में मोटे और बारीक सफाई के लिए दो चयन योग्य, पूर्ण-शक्ति अल्ट्रासोनिक आवृत्ति मोड के साथ 6.5-45 एल बेंचटॉप रेंज।

कॉन्फ़िगरेशन देखें

समाधान प्रश्न

आवेदन की योजना बनाना

संबंधित समाधान

सफाई संबंधी समस्याओं का अन्वेषण करें

परिशुद्धता सफाई नियंत्रण

सफाई समाधान

परिशुद्धता सफाई नियंत्रण

एक हिस्सा साफ़ दिख सकता है जबकि बारीक कण, आयनिक अवशेष या हल्की फ़िल्में बची रहती हैं। परिशुद्ध सफाई के लिए एक मापने योग्य लक्ष्य और नियंत्रित अंतिम चरण की आवश्यकता होती है।

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