बेंचटॉप और प्रयोगशाला अल्ट्रासोनिक क्लीनर
डेगास और स्वीप के साथ प्रयोगशाला अल्ट्रासोनिक क्लीनर
डेगास, स्वीप और सटीक नियंत्रण के साथ वैज्ञानिक प्रयोगशाला अल्ट्रासोनिक स्नान
कॉन्फ़िगरेशन देखें
लेनजेक्स औद्योगिक सफाई
अर्धचालक भागों, वाहकों और टूलींग की कोमल, नियंत्रित सफाई, जहां बारीक कण और सतह की अखंडता महत्वपूर्ण है।
अल्ट्रासोनिक क्यों
सेमीकंडक्टर निर्माण और इसकी टूलींग के लिए सतहों की सुरक्षा के लिए बहुत सूक्ष्म कण नियंत्रण और कोमल ऊर्जा की आवश्यकता होती है। उच्च-आवृत्ति, नियंत्रित अल्ट्रासोनिक सफाई कम-आवृत्ति स्नान के मजबूत विस्फोट के बिना वाहक, फिक्स्चर और संगत भागों से बारीक कणों और अवशेषों को हटा देती है।
द प्रयोगशाला अल्ट्रासोनिक क्लीनर, डेगास और स्वीप के साथ, और बहु-आवृत्ति क्लीनर इन कार्यों के लिए उपयोग किया जाता है; आवृत्ति और रसायन शास्त्र की सावधानीपूर्वक समीक्षा की जाती है। कार्य से संबंधित है क्लीनरूम की सटीक सफाई और परिशुद्धता सफाई नियंत्रण.
उपकरण निर्दिष्ट करने से पहले नियंत्रित वातावरण में अनुकूलता, कण सीमा और हैंडलिंग की पुष्टि की जाती है।

विशिष्ट वर्कपीस
संदूषण

स्वच्छता लक्ष्य
स्वीकृति कण गणना और नियंत्रित वातावरण के लिए उपयुक्त सतह निरीक्षण पर आधारित है।
सफाई के बाद पुन: संदूषण से बचने के लिए हैंडलिंग, धुलाई और सुखाने का प्रबंधन किया जाता है।
अनुशंसित अनुक्रम
अंतिम क्रम मिट्टी की लोडिंग, सामग्री, कुल्ला गुणवत्ता और सुखाने के व्यवहार पर निर्भर करता है।
अनुशंसित उपकरण
अंतिम विनिर्देश प्रक्रिया परीक्षण और उत्पादन विश्लेषण का अनुसरण करता है।
बेंचटॉप और प्रयोगशाला अल्ट्रासोनिक क्लीनर
डेगास, स्वीप और सटीक नियंत्रण के साथ वैज्ञानिक प्रयोगशाला अल्ट्रासोनिक स्नान
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बेंचटॉप क्लीनर
एक स्नान में मोटे और बारीक सफाई के लिए दो चयन योग्य, पूर्ण-शक्ति अल्ट्रासोनिक आवृत्ति मोड के साथ 6.5-45 एल बेंचटॉप रेंज।
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मल्टी-टैंक और स्वचालित सफाई प्रणालियाँ
कॉम्पैक्ट मल्टी-स्टेज अल्ट्रासोनिक वॉश, कुल्ला और सुखाने की प्रणाली
कॉन्फ़िगरेशन देखेंप्रक्रिया नियंत्रण
उपकरण सेटिंग्स को ठीक करने से पहले भाग, मिट्टी, लोडिंग और अंतिम हैंडलिंग की पुष्टि करें।
नियंत्रण 01
उन सतहों, गुहाओं और विशेषताओं को रिकॉर्ड करें जो हवा या तरल को फँसा सकती हैं।
नियंत्रण 02
सबसे भारी प्रतिनिधि संदूषण का परीक्षण करें, किसी आदर्श नमूने का नहीं।
नियंत्रण 03
उत्पादन के अनुरूप ध्वनिक पहुंच और भाग रिक्ति रखें।
नियंत्रण 04
अवशेषों और संक्षारण जोखिमों के साथ डाउनस्ट्रीम प्रबंधन का मिलान करें।
सिस्टम चयन
चरण गणना और स्वचालन मान्य प्रक्रिया और आवश्यक आउटपुट का पालन करते हैं।
बैच
केंद्रित धुलाई की तुलना करें जहां धोने और सुखाने का प्रबंधन अलग-अलग किया जाता है।
बहु मंच
जब कैरीओवर और अंतिम स्थिति मायने रखती है तो नियंत्रित चरण जोड़ें।
स्वचालित
जब आउटपुट, हैंडलिंग या रेसिपी नियंत्रण की आवश्यकता हो तो स्वचालन का मूल्यांकन करें।
स्वीकृति
परीक्षण नमूनों और उत्पादन भागों के लिए समान व्यावहारिक निरीक्षण पद्धति का उपयोग करें।
प्रतिनिधि परीक्षण
परीक्षण साक्ष्य में सामान्य उत्पादन और सबसे कठिन अपेक्षित स्थिति शामिल होनी चाहिए।
आवेदन प्रश्न
सामान्य उत्पादन भागों और सबसे कठिन अपेक्षित ज्यामिति या संदूषण को शामिल करें ताकि प्रक्रिया एक आसान नमूने पर आधारित न हो।
भाग के आयाम, सामग्री, मिट्टी, स्वच्छता लक्ष्य, प्रति लोड भाग, आवश्यक आउटपुट और उपलब्ध उपयोगिताएँ प्रदान करें।
महीन कणों और संवेदनशील सतहों के लिए उच्च, सौम्य आवृत्तियों को प्राथमिकता दी जाती है, जबकि स्वीप और डेगास गुहिकायन का भी समर्थन करते हैं; सटीक सेटिंग भाग से मेल खाती है।
यह उपकरण वाहक, फिक्स्चर, टूलींग और संगत भागों पर निर्देशित है; प्रत्यक्ष वेफर सफाई के लिए उद्देश्य-विशिष्ट अर्धचालक प्रक्रियाओं की आवश्यकता होती है जो इस सामान्य उपकरण के बाहर हैं।
नियंत्रित वातावरण में नियंत्रित धुलाई, पूर्ण सुखाने और हैंडलिंग के माध्यम से, सहमत निरीक्षण और नमूना हैंडलिंग के माध्यम से।
संबंधित अनुप्रयोग
औद्योगिक अनुप्रयोग
अल्ट्रासोनिक सफाई नियंत्रित आवृत्ति और संगत रसायन शास्त्र के साथ, मुद्रित सर्किट बोर्डों और इलेक्ट्रॉनिक असेंबली से फ्लक्स, रोसिन और आयनिक अवशेषों को हटा देती है।
सफ़ाई का दृष्टिकोण देखें
औद्योगिक अनुप्रयोग
हल्की अल्ट्रासोनिक सफाई लेपित सतहों को खरोंच किए बिना ऑप्टिकल घटकों से पॉलिशिंग कंपाउंड, कणों और उंगलियों के निशान को हटा देती है।
सफ़ाई का दृष्टिकोण देखें
औद्योगिक अनुप्रयोग
सटीक सफाई कण आकार, सतह संवेदनशीलता, कुल्ला गुणवत्ता, स्नान की स्थिति और धोने के बाद हैंडलिंग द्वारा नियंत्रित की जाती है।
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