Ultralydsrensere til bordplader og laboratorier
Laboratorie-ultralydsrens med afgasning og fejning
Scientific lab ultralydsbad med afgasning, sweep og præcis kontrol
Se konfiguration
LENJEX Industriel rengøring
Halvlederdele og armaturer Ultralydsrensning
Skånsom, kontrolleret rengøring af halvlederdele, bærere og værktøj, hvor fine partikler og overfladeintegritet er kritiske.
Hvorfor ultralyd
Ultralydsrensning af halvlederkomponenter
Fremstilling af halvledere og dens værktøj kræver meget fin partikelkontrol og skånsom energi for at beskytte overflader. Højfrekvent, kontrolleret ultralydsrensning fjerner fine partikler og rester fra bærere, armaturer og kompatible dele uden den kraftige implosion af et lavfrekvent bad.
Den laboratorie ultralydsrens, med afgasning og sweep, og den multi-frekvens renser bruges til disse opgaver; frekvens og kemi gennemgås nøje. Arbejdet vedrører renrum præcision rengøring og præcision renhedskontrol.
Kompatibilitet, partikelgrænser og håndtering i et kontrolleret miljø bekræftes, før udstyret specificeres.
- Fjernelse af fine partikler med kontrolleret energi
- Blide frekvenser, der beskytter overflader
- Fej og afgas for jævn, ensartet kavitation
- Velegnet til bærere, armaturer og kompatible dele
- Gentagelige cyklusser for kontrolleret produktion
Typiske emner
Dele i denne ansøgning
- Waferholdere og kassetter
- Proces inventar og værktøj
- Præcisionsbearbejdede dele
- Keramik og kvarts komponenter
- Metalskjolde og bakker
- Kompatible små samlinger
Forurening
Jord at vurdere
- Fine partikler og støv
- Procesrester
- Fingeraftryk og håndtering af kontaminering
- Polerings- og laprester
- Olier og organiske film
Renlighedsmål
Definer ren før du vælger udstyr
Accept er baseret på partikeltællinger og overfladeinspektion, der passer til det kontrollerede miljø.
Håndtering, skylning og tørring klares for at undgå genkontaminering efter rengøring.
Anbefalet sekvens
En procesvej til evaluering
Den endelige sekvens afhænger af jordbelastning, materiale, skyllekvalitet og tørreadfærd.
- Trin 1Afgas frisk væske og vælg en høj frekvens
- Trin 2Skånsom ultralydsvask til at fjerne fine partikler
- Trin 3Kontrollerede skylletrin
- Trin 4Tør og håndter i et kontrolleret miljø
- BekræftTjek partikelantal og overfladetilstand
Anbefalet udstyr
Systemer til at sammenligne
Den endelige specifikation følger procestest og produktionsanalyse.
Bordrensere
Dual-Frequency / Multi-Frequency Benchtop Ultrasonic Cleaner
En 6,5-45 L bordpladeserie med to valgbare ultralydsfrekvenstilstande med fuld effekt til grov og fin rengøring i ét bad.
Se konfiguration
Multi-tank og automatiske rengøringssystemer
Clean-Rinse-Dry Multi-Stage Ultrasonic System
Kompakt flertrins ultralydsvaske-, skylle- og tørresystem
Se konfigurationProceskontrol
Kontroller de variabler, der ændrer rengøringsresultatet
Bekræft del, jord, lastning og endelig håndtering, før udstyrsindstillingerne fastgøres.
Kontrol 01
Materiale og geometri
Registrer overflader, hulrum og funktioner, der kan fange luft eller væske.
Kontrol 02
Jordbundens tilstand
Test den tungeste repræsentative forurening, ikke en ideel prøve.
Kontrol 03
Indlæsning af kurv
Hold akustisk adgang og delafstand i overensstemmelse med produktionen.
Kontrol 04
Skyl og tør
Tilpas nedstrømshåndtering til rest- og korrosionsrisici.
Systemvalg
Tilpas rengøringsruten til produktionsflowet
Etapetælling og automatisering følger den validerede proces og påkrævede output.
Batch
Enkelttank rute
Sammenlign for fokuseret vask, hvor skylning og tørring styres separat.
Flertrins
Vask, skyl og tør
Tilføj kontrollerede stadier, når overførsel og endelig tilstand har betydning.
Automatisk
Gentagelig overførsel
Evaluer automatisering, når output, håndtering eller receptkontrol kræver det.
Accept
Definer, hvordan den rengjorte del skal kontrolleres
Brug den samme praktiske inspektionsmetode til prøveprøver og produktionsdele.
- Aftal overflade- eller restgrænsen
- Tjek skjulte og vanskelige funktioner
- Registrer skylnings-, tørrings- og håndteringsforhold
- Sammenlign resultater før næste operation
Repræsentantforsøg
Bekræft processen med rigtige dele og belastninger
Forsøgsbeviser bør dække normal produktion og den vanskeligste forventede tilstand.
- BeskrivDel, materiale og forurening.
- IndlæsBrug realistisk afstand og orientering.
- PrøveRegistrer kemi, tid og temperatur.
- BekræftEfterse med den aftalte metode.
Ansøgningsspørgsmål
Planlægning af rengøringsstudiet
Inkluder normale produktionsdele og den vanskeligste forventede geometri eller forurening, så processen ikke er baseret på en nem prøve.
Angiv deldimensioner, materiale, jord, mål for renlighed, dele pr. belastning, påkrævet output og tilgængelige hjælpemidler.
Højere, mildere frekvenser foretrækkes til fine partikler og følsomme overflader, mens sweep og afgasning understøtter jævn kavitation; den nøjagtige indstilling er tilpasset delen.
Dette udstyr er rettet mod bærere, armaturer, værktøj og kompatible dele; direkte waferrensning kræver formålsspecifikke halvlederprocesser, der ligger uden for dette generelle udstyr.
Gennem kontrolleret skylning, komplet tørring og håndtering i et kontrolleret miljø, med aftalt eftersyn og prøvehåndtering.
Relaterede applikationer
Udforsk tilstødende emner
Industriel anvendelse
Elektronik & PCB Ultralydsrensning
Ultralydsrensning fjerner flux, kolofonium og ionrester fra printplader og elektroniske samlinger med kontrolleret frekvens og kompatibel kemi.
Se rengøringstilgang
Industriel anvendelse
Ultralydsrensning af optik og linser
Skånsom ultralydsrensning fjerner polermasse, partikler og fingeraftryk fra optiske komponenter uden at ridse belagte overflader.
Se rengøringstilgang Industriel anvendelse
Præcisionsrensning af komponenter
Præcisionsrengøring styres af partikelstørrelse, overfladefølsomhed, skyllekvalitet, badets tilstand og håndtering efter vask.
Se rengøringstilgang