Curățarea cu ultrasunete îndepărtează fluxul și reziduurile ionice de pe plăci cu energie controlată și uscare completă.
Flux și colofoniu
Plăcile lipite pot transporta colofoniu și reziduuri ionice care afectează fiabilitatea și acoperirea. Cavitația controlată ajunge sub componente pentru a le îndepărta.
Chimia de deflux este selectată pentru tipul de flux.
- Flux de colofoniu
- Reziduuri ionice
- Particule și uleiuri de manipulare
Controlul energiei
Frecvența, puterea și expunerea sunt controlate pentru a proteja componentele sensibile, iar compatibilitatea este confirmată mai întâi cu placa reală.
Unele ansambluri sensibile nu sunt potrivite pentru ultrasunete.
Apă sau solvent

Defluxul pe bază de apă este obișnuit, în timp ce sistemele de solvenți sau de vid sunt utilizate acolo unde apa este nepotrivită sau uscarea este dificilă.
Solvenții inflamabili necesită echipamente evaluate.
Uscarea și acoperirea
Uscarea completă, inclusiv sub componente, este necesară înainte de acoperirea conformă. Reziduul sau rezultatul ionic este verificat după ciclu.
Procesul este documentat pentru repetabilitate.
Răspunsuri rapide
Întrebări frecvente
Poate afecta componentele sensibile dacă energia este necontrolată; compatibilitatea este confirmată cu placa actuală și sunt utilizate setări blânde.
Defluxul pe bază de apă este comun; sistemele de solvent sau vid sunt alese atunci când apa este nepotrivită sau uscarea este dificilă.
Umiditatea prinsă sub componente cauzează defecte și aderență slabă a stratului, deci este necesară uscarea completă.




