เครื่องทำความสะอาดอัลตราโซนิกแบบตั้งโต๊ะและในห้องปฏิบัติการ
เครื่องทำความสะอาดอัลตราโซนิกในห้องปฏิบัติการพร้อม Degas & Sweep
อ่างอัลตราโซนิกในห้องปฏิบัติการวิทยาศาสตร์พร้อมเดกาส์ การกวาด และการควบคุมที่แม่นยำ
ดูการกำหนดค่า
ศูนย์โซลูชัน LENJEX
การทำความสะอาดด้วยความถี่สูงที่มีการควบคุมสำหรับชิ้นส่วนที่มีความแม่นยำในสภาพแวดล้อมที่สะอาด โดยมีขีดจำกัดของอนุภาคและการจัดการที่ได้รับการตรวจสอบแล้ว
ภาพรวม
ขีดจำกัดของอนุภาคและรอบการตรวจสอบ
งานในห้องสะอาดที่มีความแม่นยำจะขจัดอนุภาคละเอียดและสารตกค้างตามขีดจำกัดที่กำหนด ด้วยพลังงานที่ได้รับการควบคุม ความถี่สูง การกวาดและกำจัดก๊าซ และการจัดการอย่างระมัดระวังเพื่อหลีกเลี่ยงการปนเปื้อนซ้ำ กระบวนการนี้ได้รับการจัดทำเป็นเอกสารและตรวจสอบผลลัพธ์ที่สามารถทำซ้ำได้
ที่ เครื่องทำความสะอาดอัลตราโซนิกในห้องปฏิบัติการ และ เครื่องทำความสะอาดหลายความถี่ สนับสนุนงานเหล่านี้ บ่อยครั้งใน เส้นสะอาด-ล้าง-แห้ง.
ข้อควรพิจารณาเกี่ยวกับกระบวนการ
การควบคุมอนุภาคและการตรวจสอบความถูกต้อง
การยอมรับคือการนับหรือจำกัดอนุภาคแบบกราวิเมตริกและการตรวจสอบสารตกค้าง
ความถี่ที่นุ่มนวลและสูงขึ้นและการกวาดช่วยปกป้องพื้นผิวที่บอบบาง
คุณภาพการล้างและการกรองจะกำหนดระดับอนุภาคสุดท้าย
การทำให้แห้งและการจัดการจะช่วยป้องกันการปนเปื้อนซ้ำในสภาพแวดล้อมที่มีการควบคุม
เส้นทางแนะนำ
ตรวจสอบและจัดทำเป็นเอกสารแล้ว
ระบบที่เกี่ยวข้อง
ได้รับการควบคุมและตรวจสอบแล้ว
เครื่องทำความสะอาดอัลตราโซนิกแบบตั้งโต๊ะและในห้องปฏิบัติการ
อ่างอัลตราโซนิกในห้องปฏิบัติการวิทยาศาสตร์พร้อมเดกาส์ การกวาด และการควบคุมที่แม่นยำ
ดูการกำหนดค่า
น้ำยาทำความสะอาดแบบตั้งโต๊ะ
กลุ่มผลิตภัณฑ์แบบตั้งโต๊ะขนาด 6.5-45 ลิตรพร้อมโหมดความถี่อัลตราโซนิกแบบเต็มกำลังที่เลือกได้สองโหมดสำหรับการทำความสะอาดหยาบและละเอียดในอ่างเดียว
ดูการกำหนดค่า
ระบบทำความสะอาดแบบหลายถังและระบบอัตโนมัติ
ระบบล้าง ล้าง และอบแห้งด้วยอัลตราโซนิกหลายขั้นตอนขนาดกะทัดรัด
ดูการกำหนดค่าคำถามวิธีแก้ปัญหา
เป็นกระบวนการที่ได้รับการควบคุมและผ่านการตรวจสอบแล้ว ซึ่งจะกำจัดอนุภาคละเอียดและสารตกค้างตามขีดจำกัดที่กำหนดไว้ ซึ่งมักจะอยู่ในสภาพแวดล้อมที่มีการควบคุมที่มีการกวาดล้างและกำจัดก๊าซ
โดยทั่วไปจะใช้ความถี่ที่นุ่มนวลและสูงกว่า โดยมีการกวาดและเดกาส์เพื่อให้แน่ใจว่ามีโพรงอากาศสม่ำเสมอและปกป้องพื้นผิว
ผ่านการกรองการล้าง การทำให้แห้งแบบควบคุม และการจัดการที่สะอาดในสภาพแวดล้อมที่ได้รับการควบคุม พร้อมบันทึกรอบการทำงาน
โซลูชั่นที่เกี่ยวข้อง
น้ำยาทำความสะอาด
ชิ้นส่วนอาจดูสะอาดในขณะที่อนุภาคละเอียด กากไอออนิก หรือฟิล์มแสงยังคงอยู่ การทำความสะอาดที่แม่นยำต้องการเป้าหมายที่วัดได้และขั้นตอนสุดท้ายที่ได้รับการควบคุม
ดูโซลูชัน
น้ำยาทำความสะอาด
กำจัดฟลักซ์ ขัดสน และไอออนิกที่ตกค้างออกจากแผงวงจรบัดกรีด้วยความถี่ที่ควบคุมและเคมีที่เข้ากันได้
ดูโซลูชัน
น้ำยาทำความสะอาด
การล้างจะขจัดผงซักฟอกและอนุภาคต่างๆ และการอบแห้งจะป้องกันรอยน้ำและการกัดกร่อน โดยเฉพาะในช่องและรูตัน
ดูโซลูชัน