LENJEX ผลิตภัณฑ์ทำความสะอาดอุตสาหกรรม
การทำความสะอาดอัลตราโซนิกอย่างอ่อนโยนช่วยขจัดสารขัดเงา อนุภาค และรอยนิ้วมือออกจากส่วนประกอบทางแสงโดยไม่ทำให้พื้นผิวเคลือบเป็นรอย
ทำไมต้องอัลตราโซนิค
ส่วนประกอบทางแสงประกอบด้วยสารขัดเงา อนุภาคละเอียด ระยะพิทช์ และรอยนิ้วมือหลังจากการเจียร การขัดเงา และการจัดการ การทำความสะอาดอัลตราโซนิกความถี่สูงอย่างอ่อนโยนเข้าถึงพื้นผิวโค้งและขอบโดยไม่ต้องสัมผัสด้วยมือเช็ด ซึ่งอาจทำให้เกิดรอยขีดข่วนบนชั้นเคลือบที่ละเอียดอ่อนได้
A เครื่องทำความสะอาดความถี่คู่ หรือ น้ำยาทำความสะอาดในห้องปฏิบัติการ โดยทั่วไปจะใช้แบบกวาดและเดกาส์ โดยมีคุณสมบัติทางเคมีที่เป็นกลางหรือเข้ากันได้ งานมีความเกี่ยวข้องกับ การทำความสะอาดที่แม่นยำของห้องคลีนรูม และ การทำความสะอาดชิ้นส่วนเซมิคอนดักเตอร์.
ความเข้ากันได้และความถี่ของการเคลือบจะต้องได้รับการตรวจสอบกับส่วนประกอบที่เป็นตัวแทนก่อนการผลิต
ชิ้นงานทั่วไป
การปนเปื้อน
เป้าหมายความสะอาด
การยอมรับจะขึ้นอยู่กับการตรวจสอบด้วยภาพหรือการขยายสำหรับอนุภาค หมอกควัน รอยเปื้อน และความสมบูรณ์ของการเคลือบ
การอบแห้งจะต้องไม่มีรอยเปื้อนและเหมาะสมกับพื้นผิวที่เคลือบ
ลำดับที่แนะนำ
ลำดับสุดท้ายขึ้นอยู่กับปริมาณดิน วัสดุ คุณภาพการชะล้าง และพฤติกรรมการทำให้แห้ง
อุปกรณ์แนะนำ
ข้อกำหนดขั้นสุดท้ายเป็นไปตามการทดสอบกระบวนการและการวิเคราะห์การผลิต
น้ำยาทำความสะอาดแบบตั้งโต๊ะ
กลุ่มผลิตภัณฑ์แบบตั้งโต๊ะขนาด 6.5-45 ลิตรพร้อมโหมดความถี่อัลตราโซนิกแบบเต็มกำลังที่เลือกได้สองโหมดสำหรับการทำความสะอาดหยาบและละเอียดในอ่างเดียว
ดูการกำหนดค่า
เครื่องทำความสะอาดอัลตราโซนิกแบบตั้งโต๊ะและในห้องปฏิบัติการ
อ่างอัลตราโซนิกในห้องปฏิบัติการวิทยาศาสตร์พร้อมเดกาส์ การกวาด และการควบคุมที่แม่นยำ
ดูการกำหนดค่า เครื่องทำความสะอาดอัลตราโซนิกแบบตั้งโต๊ะและในห้องปฏิบัติการ
เครื่องทำความสะอาดอัลตราโซนิกแบบตั้งโต๊ะขนาดเล็กตั้งแต่ 2 ถึง 30 ลิตร
ดูการกำหนดค่าการควบคุมกระบวนการ
ยืนยันชิ้นส่วน ดิน การบรรทุก และการจัดการขั้นสุดท้ายก่อนแก้ไขการตั้งค่าอุปกรณ์
การควบคุม 01
บันทึกพื้นผิว โพรง และคุณสมบัติที่สามารถดักจับอากาศหรือของเหลว
การควบคุม 02
ทดสอบการปนเปื้อนตัวแทนที่หนักที่สุด ไม่ใช่ตัวอย่างในอุดมคติ
การควบคุม 03
รักษาการเข้าถึงเสียงและระยะห่างของชิ้นส่วนให้สอดคล้องกับการผลิต
การควบคุม 04
จับคู่การจัดการปลายน้ำกับความเสี่ยงต่อสารตกค้างและการกัดกร่อน
การเลือกระบบ
การนับสเตจและระบบอัตโนมัติเป็นไปตามกระบวนการที่ได้รับการตรวจสอบและเอาต์พุตที่ต้องการ
แบทช์
เปรียบเทียบการซักแบบเน้นที่การจัดการการล้างและการอบแห้งแยกกัน
หลายขั้นตอน
เพิ่มขั้นตอนการควบคุมเมื่อการยกยอดและเงื่อนไขสุดท้ายมีความสำคัญ
อัตโนมัติ
ประเมินระบบอัตโนมัติเมื่อจำเป็นต้องใช้การควบคุมผลผลิต การจัดการ หรือสูตรอาหาร
การยอมรับ
ใช้วิธีการตรวจสอบเชิงปฏิบัติแบบเดียวกันสำหรับตัวอย่างทดลองและชิ้นส่วนการผลิต
การพิจารณาคดีแบบตัวแทน
หลักฐานการทดลองควรครอบคลุมถึงการผลิตตามปกติและสภาวะที่คาดหวังได้ยากที่สุด
คำถามเกี่ยวกับการสมัคร
รวมชิ้นส่วนการผลิตตามปกติและรูปทรงหรือการปนเปื้อนที่คาดหวังได้ยากที่สุด เพื่อให้กระบวนการไม่ขึ้นอยู่กับตัวอย่างที่ง่ายดาย
ระบุขนาดชิ้นส่วน วัสดุ ดิน เป้าหมายความสะอาด ชิ้นส่วนต่อน้ำหนักบรรทุก ผลลัพธ์ที่ต้องการ และสาธารณูปโภคที่มี
สามารถทำได้หากความถี่หรือเคมีรุนแรงเกินไป LENJEX ตรวจสอบส่วนประกอบที่เคลือบด้วยชิ้นส่วนที่เป็นตัวแทนเพื่อยืนยันการทำความสะอาดอย่างอ่อนโยนและไม่สร้างความเสียหาย
โดยทั่วไปความถี่ที่สูงกว่าและนุ่มนวลกว่าจะใช้สำหรับส่วนประกอบทางแสง โดยมีการกวาดและการลดก๊าซเพื่อให้แน่ใจว่ามีโพรงอากาศสม่ำเสมอ
ด้วยการล้างแบบควบคุม เคมีที่เข้ากันได้ และการอบแห้งที่เหมาะสม ซึ่งสอดคล้องกับรูปทรงของการเคลือบและส่วนประกอบ
การใช้งานที่เกี่ยวข้อง
การใช้งานทางอุตสาหกรรม
การทำความสะอาดชิ้นส่วนเซมิคอนดักเตอร์ ตัวพา และเครื่องมืออย่างอ่อนโยนและควบคุมได้ ซึ่งอนุภาคละเอียดและความสมบูรณ์ของพื้นผิวเป็นสิ่งสำคัญ
ดูแนวทางการทำความสะอาด การใช้งานทางอุตสาหกรรม
ทำความสะอาดส่วนประกอบที่เป็นแก้ว ขวด ขวด และภาชนะขนาดเล็ก รวมถึงด้านในและส่วนคอแคบ โดยไม่เกิดรอยขีดข่วน
ดูแนวทางการทำความสะอาด
การใช้งานทางอุตสาหกรรม
การทำความสะอาดที่แม่นยำจะถูกควบคุมโดยขนาดอนุภาค ความไวของพื้นผิว คุณภาพการล้าง สภาพการอาบน้ำ และการจัดการหลังการซัก
ดูแนวทางการทำความสะอาด