เครื่องทำความสะอาดอัลตราโซนิกแบบตั้งโต๊ะและในห้องปฏิบัติการ
เครื่องทำความสะอาดอัลตราโซนิกในห้องปฏิบัติการพร้อม Degas & Sweep
อ่างอัลตราโซนิกในห้องปฏิบัติการวิทยาศาสตร์พร้อมเดกาส์ การกวาด และการควบคุมที่แม่นยำ
ดูการกำหนดค่า
LENJEX ผลิตภัณฑ์ทำความสะอาดอุตสาหกรรม
การทำความสะอาดชิ้นส่วนเซมิคอนดักเตอร์ ตัวพา และเครื่องมืออย่างอ่อนโยนและควบคุมได้ ซึ่งอนุภาคละเอียดและความสมบูรณ์ของพื้นผิวเป็นสิ่งสำคัญ
ทำไมต้องอัลตราโซนิค
การผลิตเซมิคอนดักเตอร์และเครื่องมือต้องใช้การควบคุมอนุภาคที่ละเอียดมากและใช้พลังงานอย่างอ่อนโยนเพื่อปกป้องพื้นผิว การทำความสะอาดอัลตราโซนิกที่มีการควบคุมด้วยความถี่สูงกว่าจะขจัดอนุภาคละเอียดและสารตกค้างออกจากพาหะ อุปกรณ์จับยึด และชิ้นส่วนที่เข้ากันได้ โดยไม่เกิดการระเบิดอย่างรุนแรงในอ่างความถี่ต่ำ
ที่ เครื่องทำความสะอาดอัลตราโซนิกในห้องปฏิบัติการด้วยเดกาส์และการกวาด และ เครื่องทำความสะอาดหลายความถี่ ใช้สำหรับงานเหล่านี้ ความถี่และเคมีได้รับการตรวจสอบอย่างรอบคอบ งานเกี่ยวข้องกับ การทำความสะอาดที่แม่นยำของห้องคลีนรูม และ ควบคุมความสะอาดได้อย่างแม่นยำ.
ความเข้ากันได้ ขีดจำกัดของอนุภาค และการจัดการในสภาพแวดล้อมที่มีการควบคุมจะได้รับการยืนยันก่อนที่จะระบุอุปกรณ์

ชิ้นงานทั่วไป
การปนเปื้อน

เป้าหมายความสะอาด
การยอมรับขึ้นอยู่กับการนับอนุภาคและการตรวจสอบพื้นผิวที่เหมาะสมกับสภาพแวดล้อมที่มีการควบคุม
การจัดการ การล้าง และการทำให้แห้งได้รับการจัดการเพื่อหลีกเลี่ยงการปนเปื้อนซ้ำหลังการทำความสะอาด
ลำดับที่แนะนำ
ลำดับสุดท้ายขึ้นอยู่กับปริมาณดิน วัสดุ คุณภาพการชะล้าง และพฤติกรรมการทำให้แห้ง
อุปกรณ์แนะนำ
ข้อกำหนดขั้นสุดท้ายเป็นไปตามการทดสอบกระบวนการและการวิเคราะห์การผลิต
เครื่องทำความสะอาดอัลตราโซนิกแบบตั้งโต๊ะและในห้องปฏิบัติการ
อ่างอัลตราโซนิกในห้องปฏิบัติการวิทยาศาสตร์พร้อมเดกาส์ การกวาด และการควบคุมที่แม่นยำ
ดูการกำหนดค่า
น้ำยาทำความสะอาดแบบตั้งโต๊ะ
กลุ่มผลิตภัณฑ์แบบตั้งโต๊ะขนาด 6.5-45 ลิตรพร้อมโหมดความถี่อัลตราโซนิกแบบเต็มกำลังที่เลือกได้สองโหมดสำหรับการทำความสะอาดหยาบและละเอียดในอ่างเดียว
ดูการกำหนดค่า
ระบบทำความสะอาดแบบหลายถังและระบบอัตโนมัติ
ระบบล้าง ล้าง และอบแห้งด้วยอัลตราโซนิกหลายขั้นตอนขนาดกะทัดรัด
ดูการกำหนดค่าการควบคุมกระบวนการ
ยืนยันชิ้นส่วน ดิน การบรรทุก และการจัดการขั้นสุดท้ายก่อนแก้ไขการตั้งค่าอุปกรณ์
การควบคุม 01
บันทึกพื้นผิว โพรง และคุณสมบัติที่สามารถดักจับอากาศหรือของเหลว
การควบคุม 02
ทดสอบการปนเปื้อนตัวแทนที่หนักที่สุด ไม่ใช่ตัวอย่างในอุดมคติ
การควบคุม 03
รักษาการเข้าถึงเสียงและระยะห่างของชิ้นส่วนให้สอดคล้องกับการผลิต
การควบคุม 04
จับคู่การจัดการปลายน้ำกับความเสี่ยงต่อสารตกค้างและการกัดกร่อน
การเลือกระบบ
การนับสเตจและระบบอัตโนมัติเป็นไปตามกระบวนการที่ได้รับการตรวจสอบและเอาต์พุตที่ต้องการ
แบทช์
เปรียบเทียบการซักแบบเน้นที่การจัดการการล้างและการอบแห้งแยกกัน
หลายขั้นตอน
เพิ่มขั้นตอนการควบคุมเมื่อการยกยอดและเงื่อนไขสุดท้ายมีความสำคัญ
อัตโนมัติ
ประเมินระบบอัตโนมัติเมื่อจำเป็นต้องใช้การควบคุมผลผลิต การจัดการ หรือสูตรอาหาร
การยอมรับ
ใช้วิธีการตรวจสอบเชิงปฏิบัติแบบเดียวกันสำหรับตัวอย่างทดลองและชิ้นส่วนการผลิต
การพิจารณาคดีแบบตัวแทน
หลักฐานการทดลองควรครอบคลุมถึงการผลิตตามปกติและสภาวะที่คาดหวังได้ยากที่สุด
คำถามเกี่ยวกับการสมัคร
รวมชิ้นส่วนการผลิตตามปกติและรูปทรงหรือการปนเปื้อนที่คาดหวังได้ยากที่สุด เพื่อให้กระบวนการไม่ขึ้นอยู่กับตัวอย่างที่ง่ายดาย
ระบุขนาดชิ้นส่วน วัสดุ ดิน เป้าหมายความสะอาด ชิ้นส่วนต่อน้ำหนักบรรทุก ผลลัพธ์ที่ต้องการ และสาธารณูปโภคที่มี
ความถี่ที่สูงกว่าและอ่อนโยนกว่าเป็นที่ต้องการสำหรับอนุภาคละเอียดและพื้นผิวที่ละเอียดอ่อน ในขณะที่การกวาดและดีกาสรองรับแม้กระทั่งการเกิดโพรงอากาศ การตั้งค่าที่แน่นอนจะตรงกับชิ้นส่วน
อุปกรณ์นี้มีไว้สำหรับส่วนรองรับ อุปกรณ์จับยึด เครื่องมือ และชิ้นส่วนที่ใช้ร่วมกันได้ การทำความสะอาดแผ่นเวเฟอร์โดยตรงต้องใช้กระบวนการเซมิคอนดักเตอร์เฉพาะวัตถุประสงค์ที่อยู่นอกอุปกรณ์ทั่วไปนี้
ผ่านการล้างแบบควบคุม การอบแห้งอย่างสมบูรณ์ และการจัดการในสภาพแวดล้อมที่มีการควบคุม โดยมีการตรวจสอบและการจัดการตัวอย่างตามที่ตกลงไว้
การใช้งานที่เกี่ยวข้อง
การใช้งานทางอุตสาหกรรม
การทำความสะอาดด้วยอัลตราโซนิกจะกำจัดฟลักซ์ ขัดสน และไอออนิกที่ตกค้างออกจากแผงวงจรพิมพ์และส่วนประกอบอิเล็กทรอนิกส์ ด้วยความถี่ที่ควบคุมและเคมีที่เข้ากันได้
ดูแนวทางการทำความสะอาด
การใช้งานทางอุตสาหกรรม
การทำความสะอาดอัลตราโซนิกอย่างอ่อนโยนช่วยขจัดสารขัดเงา อนุภาค และรอยนิ้วมือออกจากส่วนประกอบทางแสงโดยไม่ทำให้พื้นผิวเคลือบเป็นรอย
ดูแนวทางการทำความสะอาด
การใช้งานทางอุตสาหกรรม
การทำความสะอาดที่แม่นยำจะถูกควบคุมโดยขนาดอนุภาค ความไวของพื้นผิว คุณภาพการล้าง สภาพการอาบน้ำ และการจัดการหลังการซัก
ดูแนวทางการทำความสะอาด