Stolné čističe
Digitálny stolný ultrazvukový čistič na laboratórne a presné čistenie malých dávok
Profesionálny stolný rad 2-45 l s digitálnym ovládaním času, teploty a výkonu pre laboratórne, dielenské a malosériové použitie.
Zobraziť konfiguráciu
Centrum riešení LENJEX
Odstraňovanie taviva a kolofónie
Odstraňuje tavidlo, kolofóniu a zvyšky iónov zo spájkovaných dosiek plošných spojov s kontrolovanou frekvenciou a kompatibilnou chémiou.
Prehľad
Čistenie po spájkovaní
Zvyšky taviva ovplyvňujú spoľahlivosť.
Po spájkovaní môžu tavidlo a kolofónia zanechať viditeľné filmy a iónové zvyšky, ktoré spôsobujú koróziu, netesnosti a zlú priľnavosť povlaku. Ultrazvukové čistenie zasahuje pod komponenty a medzi elektródy, aby sa tieto zvyšky dôsledne odstránili.
Kompatibilný de-flux čistiaci roztok a riadená energia chráni zostavu, po ktorej nasleduje úplné vysušenie. Pozri elektronika a čistenie DPS.
Úvahy o procese
De-flux rozhodnutia
Najprv chémia a kompatibilita komponentov.
Kolofónia, nečisté a vo vode rozpustné tavivá zanechávajú rôzne zvyšky.
- Kolofónia (RA/RMA)
- Nečisté zvyšky
- Vo vode rozpustné tavidlo
Pre tavidlo a dosku sa vyberie chémia na odstránenie toku alebo kompatibilné rozpúšťadlo.
- De-flux na vodnej báze
- Čistenie rozpúšťadlom
- Upravený alkohol
Frekvencia, energia a expozícia sú riadené na ochranu citlivých komponentov.
- Riadená frekvencia
- Overená kompatibilita
- Jemné cykly
Úplné vysušenie odstraňuje vlhkosť pod komponentmi pred nanášaním.
- Dôkladné opláchnutie
- Úplné vysušenie
- Pripravenosť náteru
Odporúčaná trasa
De-flux cesta
Overené so skutočnou doskou.
- IdentifikovaťIdentifikujte typ taviva a komponenty
- UmyťUltrazvukové umývanie s de-flux chémiou
- OpláchniteOpláchnite kompatibilným médiom
- SuchéPod komponentmi dôkladne vysušte
- OveriťSkontrolujte iónové a viditeľné zvyšky
Súvisiace systémy
Zariadenie na odfukovanie
Stolové až kompaktné systémy.
Stolové a laboratórne ultrazvukové čističe
Laboratórny ultrazvukový čistič s Degas & Sweep
Vedecký laboratórny ultrazvukový kúpeľ s odplyňovaním, zametaním a presným ovládaním
Zobraziť konfiguráciu
Priemyselné jednonádržové a špeciálne čistiace prostriedky
Vákuový ultrazvukový čistiaci stroj s rozpúšťadlom
Utesnené vákuové ultrazvukové čistenie a sušenie s uhľovodíkom alebo rozpúšťadlom s modifikovaným alkoholom
Zobraziť konfiguráciuOtázky na riešenie
Plánovanie aplikácie
áno. Riadená kavitácia s de-flux chémiou odstraňuje kolofóniu a iónové zvyšky pod komponentmi, po čom nasleduje úplné vysušenie.
Bežné je odstraňovanie toku na vodnej báze; rozpúšťadlové alebo vákuové systémy sa používajú tam, kde voda nie je vhodná alebo kde je ťažké sušenie.
Energia a frekvencia sú kontrolované a pred výrobou je overená kompatibilita so skutočnou doskou.
Súvisiace riešenia
Preskúmajte súvisiace problémy s čistením
Čistiaci roztok
Precízne čistenie čistých priestorov
Riadené, vysokofrekvenčné čistenie presných dielov v čistom prostredí s limitmi častíc a overenou manipuláciou.
Zobraziť riešenie
Čistiaci roztok
Roztoky na oplachovanie a sušenie
Oplachovanie odstraňuje čistiaci prostriedok a čiastočky a sušenie zabraňuje vodným stopám a korózii, najmä v dutinách a slepých otvoroch.
Zobraziť riešenie
Čistiaci roztok
Ultrazvukové čistenie na vodnej báze
Ultrazvukové čistenie na vodnej báze využíva alkalické, neutrálne alebo kyslé čistiace prostriedky na odstránenie oleja, častíc a oxidov kontrolovanou chémiou.
Zobraziť riešenie