Stolové a laboratórne ultrazvukové čističe
Laboratórny ultrazvukový čistič s Degas & Sweep
Vedecký laboratórny ultrazvukový kúpeľ s odplyňovaním, zametaním a presným ovládaním
Zobraziť konfiguráciu
Centrum riešení LENJEX
Riadené, vysokofrekvenčné čistenie presných dielov v čistom prostredí s limitmi častíc a overenou manipuláciou.
Prehľad
Limity častíc a overené cykly.
Precízna a čistá práca odstraňuje jemné častice a zvyšky do definovaných limitov s kontrolovanou energiou, vysokou frekvenciou, zametaním a odplyňovaním a opatrným zaobchádzaním, aby sa zabránilo opätovnej kontaminácii. Proces je zdokumentovaný a overený pre opakovateľné výsledky.
The laboratórna ultrazvuková čistička a viacfrekvenčný čistič podporovať tieto úlohy, často v a linka čistá-oplachovať-sušiť.
Úvahy o procese
Kontrola a validácia častíc.
Akceptácia je počítaný alebo gravimetrický limit častíc a kontrola zvyškov.
Jemné, vyššie frekvencie a zametanie chránia citlivé povrchy.
Kvalita oplachovania a filtrácia určujú konečnú úroveň častíc.
Sušenie a manipulácia zabraňujú rekontaminácii v kontrolovanom prostredí.
Odporúčaná trasa
Overené a zdokumentované.
Súvisiace systémy
Kontrolované a overené.
Stolové a laboratórne ultrazvukové čističe
Vedecký laboratórny ultrazvukový kúpeľ s odplyňovaním, zametaním a presným ovládaním
Zobraziť konfiguráciu
Stolné čističe
Stolný rad s objemom 6,5 – 45 l s dvoma voliteľnými režimami ultrazvukovej frekvencie s plným výkonom na hrubé a jemné čistenie v jednom kúpeli.
Zobraziť konfiguráciu
Viacnádržové a automatické čistiace systémy
Kompaktný viacstupňový ultrazvukový systém umývania, oplachovania a sušenia
Zobraziť konfiguráciuOtázky na riešenie
Ide o kontrolovaný, overený proces, ktorý odstraňuje jemné častice a zvyšky do definovaných limitov, často v kontrolovanom prostredí so zametaním a odplynením.
Typicky sa používajú jemné, vyššie frekvencie so zametaním a odplyňovaním na zabezpečenie rovnomernej kavitácie a ochranu povrchov.
Prostredníctvom filtrovaného preplachovania, kontrolovaného sušenia a čistej manipulácie v kontrolovanom prostredí s dokumentovanými cyklami.
Súvisiace riešenia
Čistiaci roztok
Časť môže vyzerať čisto, zatiaľ čo jemné častice, zvyšky iónov alebo ľahké filmy zostávajú. Precízne čistenie si vyžaduje merateľný cieľ a kontrolované konečné fázy.
Zobraziť riešenie
Čistiaci roztok
Odstraňuje tavidlo, kolofóniu a zvyšky iónov zo spájkovaných dosiek plošných spojov s kontrolovanou frekvenciou a kompatibilnou chémiou.
Zobraziť riešenie
Čistiaci roztok
Oplachovanie odstraňuje čistiaci prostriedok a čiastočky a sušenie zabraňuje vodným stopám a korózii, najmä v dutinách a slepých otvoroch.
Zobraziť riešenie