Stolní a laboratorní ultrazvukové čističe
Laboratorní ultrazvukový čistič s Degas & Sweep
Vědecká laboratorní ultrazvuková lázeň s odplyněním, zametáním a přesným ovládáním
Zobrazit konfiguraci
Centrum řešení LENJEX
Precizní čištění čistých prostor
Kontrolované, vysokofrekvenční čištění přesných dílů v čistém prostředí s limity částic a ověřenou manipulací.
Přehled
Požadavky na přesné čištění
Limity částic a validované cykly.
Přesná a čistá práce odstraňuje jemné částice a zbytky do definovaných limitů s řízenou energií, vysokou frekvencí, zametáním a odplyňováním a opatrným zacházením, aby se zabránilo opětovné kontaminaci. Proces je zdokumentován a ověřen pro opakovatelné výsledky.
The laboratorní ultrazvuková čistička a vícefrekvenční čistič podporovat tyto úkoly, často v a linka čistá-oplachovat-sušit.
Procesní úvahy
Přesná rozhodnutí
Kontrola a validace částic.
Přijetí je počítaný nebo gravimetrický limit částic a kontrola zbytků.
- Částice se počítají
- Gravimetrická kontrola
- Kontroly zbytků
Jemné, vyšší frekvence a sweep chrání citlivé povrchy.
- Zametejte a odplyňujte
- Vyšší frekvence
- Řízená energie
Kvalita máchání a filtrace určují konečnou úroveň částic.
- Filtrovaný oplach
- Kvalita vody
- Vícestupňové oplachování
Sušení a manipulace zabraňují rekontaminaci v kontrolovaném prostředí.
- Řízené sušení
- Čistá manipulace
- Dokumentované cykly
Doporučená trasa
Přesná trasa
Ověřeno a zdokumentováno.
- DegasOdplyněte a vyberte vysokou frekvenci
- Umyjte seJemné mytí ultrazvukem
- OpláchněteFiltrovaný vícestupňový oplach
- SuchéŘízené sušení
- OvěřteOvěřte limity částic
Související systémy
Zařízení pro přesné čištění
Kontrolováno a ověřeno.
Stolní čističe
Dvoufrekvenční / vícefrekvenční stolní ultrazvukový čistič
Stolní řada 6,5–45 l se dvěma volitelnými režimy ultrazvukové frekvence s plným výkonem pro hrubé a jemné čištění v jedné lázni.
Zobrazit konfiguraci
Vícenádržové a automatické čisticí systémy
Vícestupňový ultrazvukový systém Clean-Rinse-Dry
Kompaktní vícestupňový ultrazvukový mycí, oplachovací a sušící systém
Zobrazit konfiguraciOtázky k řešení
Plánování aplikace
Jedná se o kontrolovaný, ověřený proces, který odstraňuje jemné částice a zbytky na definované limity, často v kontrolovaném prostředí se zametáním a odplyněním.
Obvykle se používají jemné, vyšší frekvence, se zametáním a odplyněním pro zajištění rovnoměrné kavitace a ochranu povrchů.
Prostřednictvím filtrovaného oplachování, řízeného sušení a čisté manipulace v kontrolovaném prostředí s dokumentovanými cykly.
Související řešení
Prozkoumejte související problémy s čištěním
Čisticí roztok
Přesná kontrola čistoty
Část může vypadat čistě, zatímco jemné částice, zbytky iontů nebo lehké filmy zůstanou. Přesné čištění vyžaduje měřitelný cíl a kontrolované konečné fáze.
Zobrazit řešení
Čisticí roztok
Odstraňování tavidla a kalafuny
Odstraňuje tavidlo, kalafunu a zbytky iontů z pájených desek plošných spojů s řízenou frekvencí a kompatibilní chemií.
Zobrazit řešení Čisticí roztok
Roztoky pro oplachování a sušení
Oplachování odstraňuje mycí prostředek a částice a sušení zabraňuje vodním stopám a korozi, zejména v dutinách a slepých otvorech.
Zobrazit řešení