LENJEX Solution Center
Uklanja fluks, kolofonij i jonske ostatke sa lemljenih ploča s kontroliranom frekvencijom i kompatibilnom hemijom.
Pregled
Ostaci fluksa utiču na pouzdanost.
Nakon lemljenja, fluks i kolofonij mogu ostaviti vidljive filmove i ionske ostatke koji uzrokuju koroziju, curenje i slabo prianjanje premaza. Ultrazvučno čišćenje seže ispod komponenti i između vodova kako bi se dosljedno uklonili ovi ostaci.
Kompatibilan de-flux rastvor za čišćenje i kontrolirana energija štite sklop, nakon čega slijedi potpuno sušenje. Vidi čišćenje elektronike i PCB-a.
Procesna razmatranja
Prije svega hemija i kompatibilnost komponenti.
Kolofonijski, nečišći i vodotopivi fluksovi ostavljaju različite ostatke.
Za fluks i ploču se bira hemija za uklanjanje toka ili kompatibilno otapalo.
Učestalost, energija i ekspozicija su kontrolirani kako bi se zaštitile osjetljive komponente.
Potpuno sušenje uklanja vlagu ispod komponenti prije premaza.
Preporučena ruta
Potvrđeno sa stvarnom pločom.
Related Systems
Od stolnih do kompaktnih sistema.
Benchtop Cleaners
Profesionalni stoni asortiman od 2-45 L s digitalnom kontrolom vremena, temperature i snage za laboratorijsku, radioničku i upotrebu u malim serijama.
Pogledajte konfiguraciju
Stolni i laboratorijski ultrazvučni čistači
Naučna laboratorijska ultrazvučna kupka sa degaziranjem, čišćenjem i preciznom kontrolom
Pogledajte konfiguraciju
Industrijska sredstva za čišćenje sa jednim rezervoarom i posebna sredstva za čišćenje
Zapečaćeno vakuumsko ultrazvučno čišćenje i sušenje ugljovodonikom ili modifikovanim alkoholom
Pogledajte konfiguracijuRješenje pitanja
Da. Kontrolisana kavitacija s de-flux hemijom uklanja kolofonij i jonske ostatke ispod komponenti, nakon čega slijedi potpuno sušenje.
De-fluks na bazi vode je uobičajen; sistemi rastvarača ili vakuuma koriste se tamo gde je voda neprikladna ili je sušenje otežano.
Energija i frekvencija su kontrolirani, a kompatibilnost je potvrđena sa stvarnom pločom prije proizvodnje.
Related Solutions
Rešenje za čišćenje
Kontrolirano, visokofrekventno čišćenje za precizne dijelove u čistom okruženju, s ograničenjem čestica i validiranim rukovanjem.
Pogledajte rješenje
Rešenje za čišćenje
Ispiranjem se uklanjaju deterdžent i čestice, a sušenjem se sprječavaju tragovi vode i korozija, posebno u šupljinama i slijepim rupama.
Pogledajte rješenje
Rešenje za čišćenje
Ultrazvučno čišćenje na bazi vode koristi alkalne, neutralne ili kisele deterdžente za uklanjanje ulja, čestica i oksida kontroliranom hemijom.
Pogledajte rješenje