Benchtop & ຫ້ອງທົດລອງ Ultrasonic Cleaners
ຫ້ອງທົດລອງ Ultrasonic Cleaner ກັບ Degas & Sweep
ຫ້ອງທົດລອງວິທະຍາສາດອາບນ້ໍາ ultrasonic ກັບ degas, sweep ແລະການຄວບຄຸມທີ່ຊັດເຈນ
ເບິ່ງການຕັ້ງຄ່າ
LENJEX ທໍາຄວາມສະອາດອຸດສາຫະກໍາ
ຊິ້ນສ່ວນ Semiconductor ແລະ Fixtures ການທໍາຄວາມສະອາດ Ultrasonic
ການເຮັດຄວາມສະອາດຢ່າງອ່ອນໂຍນ, ຄວບຄຸມຂອງພາກສ່ວນ semiconductor, ຜູ້ໃຫ້ບໍລິການແລະເຄື່ອງມື, ບ່ອນທີ່ອະນຸພາກອັນດີງາມແລະຄວາມສົມບູນຂອງພື້ນຜິວແມ່ນສໍາຄັນ.
ເປັນຫຍັງ Ultrasonic
ການທໍາຄວາມສະອາດ ultrasonic ສໍາລັບອົງປະກອບ Semiconductor
ການຜະລິດ semiconductor ແລະເຄື່ອງມືຂອງມັນຮຽກຮ້ອງໃຫ້ມີການຄວບຄຸມອະນຸພາກທີ່ດີຫຼາຍແລະພະລັງງານທີ່ອ່ອນໂຍນເພື່ອປົກປ້ອງຫນ້າດິນ. ຄວາມຖີ່ສູງ, ການທໍາຄວາມສະອາດ ultrasonic ຄວບຄຸມເອົາອະນຸພາກອັນດີແລະສານຕົກຄ້າງຈາກບັນທຸກ, fixtures ແລະພາກສ່ວນທີ່ເຂົ້າກັນໄດ້ໂດຍບໍ່ມີການ implosion ທີ່ເຂັ້ມແຂງຂອງອາບນ້ໍາຄວາມຖີ່ຕ່ໍາ.
ໄດ້ ເຄື່ອງເຮັດຄວາມສະອາດ ultrasonic ຫ້ອງທົດລອງ, ມີ degas ແລະ sweep, ແລະ ເຄື່ອງເຮັດຄວາມສະອາດຫຼາຍຄວາມຖີ່ ຖືກນໍາໃຊ້ສໍາລັບວຽກງານເຫຼົ່ານີ້; ຄວາມຖີ່ ແລະ ເຄມີຖືກທົບທວນຢ່າງລະອຽດ. ວຽກງານທີ່ກ່ຽວຂ້ອງກັບ ການທໍາຄວາມສະອາດຄວາມຊັດເຈນຂອງຫ້ອງ ແລະ ການຄວບຄຸມຄວາມສະອາດຊັດເຈນ.
ຄວາມເຂົ້າກັນໄດ້, ຂອບເຂດຈໍາກັດຂອງອະນຸພາກແລະການຈັດການໃນສະພາບແວດລ້ອມທີ່ມີການຄວບຄຸມໄດ້ຖືກຢືນຢັນກ່ອນທີ່ຈະກໍານົດອຸປະກອນ.
- ການກໍາຈັດອະນຸພາກລະອຽດດ້ວຍພະລັງງານຄວບຄຸມ
- ຄວາມຖີ່ທີ່ອ່ອນໂຍນທີ່ປົກປ້ອງພື້ນຜິວ
- Sweep ແລະ degas ສໍາລັບແມ້ກະທັ້ງ, cavitation ສອດຄ່ອງ
- ເຫມາະສົມສໍາລັບການບັນທຸກ, fixtures ແລະພາກສ່ວນທີ່ເຂົ້າກັນໄດ້
- ຮອບວຽນທີ່ສາມາດເຮັດຊ້ໍາໄດ້ສໍາລັບການຜະລິດທີ່ຄວບຄຸມ
Workpieces ປົກກະຕິ
ພາກສ່ວນໃນແອັບພລິເຄຊັນນີ້
- ຜູ້ໃຫ້ບໍລິການ Wafer ແລະ cassette
- ຂະບວນການຕິດຕັ້ງແລະເຄື່ອງມື
- ພາກສ່ວນເຄື່ອງຈັກທີ່ມີຄວາມແມ່ນຍໍາ
- ອົງປະກອບຂອງເຊລາມິກແລະ quartz
- ໄສ້ໂລຫະແລະຖາດ
- ການປະກອບຂະຫນາດນ້ອຍເຂົ້າກັນໄດ້
ການປົນເປື້ອນ
ດິນເພື່ອປະເມີນ
- ອະນຸພາກດີ ແລະຂີ້ຝຸ່ນ
- ຂະບວນການຕົກຄ້າງ
- ລາຍນິ້ວມືແລະການຈັດການການປົນເປື້ອນ
- ການຂັດຜິວ ແລະສິ່ງເສດເຫຼືອທີ່ຕິດຂັດ
- ນໍ້າມັນແລະຮູບເງົາອິນຊີ
ເປົ້າໝາຍຄວາມສະອາດ
ກໍານົດຄວາມສະອາດກ່ອນທີ່ຈະເລືອກອຸປະກອນ
ການຍອມຮັບແມ່ນອີງໃສ່ການນັບອະນຸພາກແລະການກວດກາພື້ນຜິວທີ່ເຫມາະສົມກັບສະພາບແວດລ້ອມທີ່ຄວບຄຸມ.
ການຈັດການ, rinsing ແລະເວລາແຫ້ງແມ່ນການຄຸ້ມຄອງເພື່ອຫຼີກເວັ້ນການ recontamination ຫຼັງຈາກທໍາຄວາມສະອາດ.
ລໍາດັບທີ່ແນະນໍາ
ເສັ້ນທາງຂະບວນການສໍາລັບການປະເມີນຜົນ
ລໍາດັບສຸດທ້າຍແມ່ນຂຶ້ນກັບການໂຫຼດດິນ, ວັດສະດຸ, ຄຸນນະພາບການລ້າງແລະພຶດຕິກໍາການແຫ້ງ.
- ຂັ້ນຕອນທີ 1Degas ຂອງແຫຼວສົດແລະເລືອກຄວາມຖີ່ສູງ
- ຂັ້ນຕອນທີ 2ລ້າງ ultrasonic ອ່ອນໆເພື່ອຍົກອະນຸພາກອັນດີ
- ຂັ້ນຕອນທີ 3ຄວບຄຸມຂັ້ນຕອນການລ້າງອອກ
- ຂັ້ນຕອນທີ 4ແຫ້ງແລະຈັດການໃນສະພາບແວດລ້ອມທີ່ມີການຄວບຄຸມ
- ຢືນຢັນກວດເບິ່ງຈໍານວນອະນຸພາກແລະສະພາບຫນ້າດິນ
ອຸປະກອນທີ່ແນະນໍາ
ລະບົບການປຽບທຽບ
ຂໍ້ກໍາຫນົດສຸດທ້າຍປະຕິບັດຕາມການທົດສອບຂະບວນການແລະການວິເຄາະການຜະລິດ.
ເຄື່ອງເຮັດຄວາມສະອາດ Benchtop
Dual-Frequency / Multi-Frequency Benchtop ເຄື່ອງເຮັດຄວາມສະອາດ Ultrasonic
ລະດັບ benchtop 6.5-45 L ທີ່ມີສອງໂຫມດຄວາມຖີ່ ultrasonic ເຕັມພະລັງງານທີ່ສາມາດເລືອກໄດ້ສໍາລັບການເຮັດຄວາມສະອາດຫຍາບແລະດີໃນຫນຶ່ງອາບນ້ໍາ.
ເບິ່ງການຕັ້ງຄ່າ
Multi-Tank & ລະບົບທໍາຄວາມສະອາດອັດຕະໂນມັດ
Clean-Rinse-Dry ລະບົບ Ultrasonic ຫຼາຍຂັ້ນຕອນ
ກະທັດຮັດຫຼາຍຂັ້ນຕອນຂອງການລ້າງ ultrasonic, rinse ແລະເວລາແຫ້ງລະບົບ
ເບິ່ງການຕັ້ງຄ່າການຄວບຄຸມຂະບວນການ
ຄວບຄຸມຕົວແປທີ່ປ່ຽນແປງຜົນການທໍາຄວາມສະອາດ
ຢືນຢັນສ່ວນ, ດິນ, ການໂຫຼດແລະການຈັດການສຸດທ້າຍກ່ອນທີ່ຈະແກ້ໄຂການຕັ້ງຄ່າອຸປະກອນ.
ຄວບຄຸມ 01
ວັດສະດຸ ແລະເລຂາຄະນິດ
ບັນທຶກພື້ນຜິວ, ຢູ່ຕາມໂກນ ແລະ ລັກສະນະທີ່ສາມາດຈັ່ນຈັບອາກາດ ຫຼື ຂອງແຫຼວໄດ້.
ຄວບຄຸມ 02
ສະພາບດິນ
ທົດສອບການປົນເປື້ອນຕົວແທນທີ່ຫນັກຫນ່ວງທີ່ສຸດ, ບໍ່ແມ່ນຕົວຢ່າງທີ່ເຫມາະສົມ.
ຄວບຄຸມ 03
ການໂຫຼດກະຕ່າ
ຮັກສາການເຂົ້າເຖິງສຽງແລະຊ່ອງຫວ່າງສ່ວນທີ່ສອດຄ່ອງກັບການຜະລິດ.
ຄວບຄຸມ 04
ລ້າງອອກແລະແຫ້ງ
ຈັບຄູ່ການຈັດການທາງລຸ່ມກັບຄວາມສ່ຽງຕໍ່ການຕົກຄ້າງແລະການກັດກ່ອນ.
ການເລືອກລະບົບ
ຈັບຄູ່ເສັ້ນທາງການທໍາຄວາມສະອາດກັບກະແສການຜະລິດ
ການນັບຂັ້ນຕອນແລະອັດຕະໂນມັດປະຕິບັດຕາມຂະບວນການທີ່ຖືກຕ້ອງແລະຜົນຜະລິດທີ່ຕ້ອງການ.
ຊຸດ
ເສັ້ນທາງລົດຖັງດຽວ
ປຽບທຽບສໍາລັບການລ້າງທີ່ສຸມໃສ່ບ່ອນທີ່ rinsing ແລະການຕາກແຫ້ງໄດ້ຖືກຈັດການແຍກຕ່າງຫາກ.
ຫຼາຍຂັ້ນຕອນ
ລ້າງ, ລ້າງແລະແຫ້ງ
ເພີ່ມຂັ້ນຕອນທີ່ຄວບຄຸມໄດ້ເມື່ອການຂົນສົ່ງ ແລະເງື່ອນໄຂສຸດທ້າຍແມ່ນສໍາຄັນ.
ອັດຕະໂນມັດ
ການໂອນຄືນໄດ້
ປະເມີນອັດຕະໂນມັດໃນເວລາທີ່ຜົນຜະລິດ, ການຈັດການຫຼືການຄວບຄຸມສູດຕ້ອງການມັນ.
ການຍອມຮັບ
ກໍານົດວ່າສ່ວນທີ່ຖືກອະນາໄມຈະຖືກກວດສອບແນວໃດ
ໃຊ້ວິທີການກວດກາການປະຕິບັດດຽວກັນສໍາລັບຕົວຢ່າງການທົດລອງແລະພາກສ່ວນການຜະລິດ.
- ຕົກລົງເຫັນດີກັບຂອບເຂດຈໍາກັດດ້ານຫນ້າຫຼື residue
- ກວດເບິ່ງລັກສະນະທີ່ເຊື່ອງໄວ້ແລະຍາກ
- ບັນທຶກການລ້າງ, ຕາກໃຫ້ແຫ້ງ ແລະການຈັດການເງື່ອນໄຂ
- ປຽບທຽບຜົນໄດ້ຮັບກ່ອນທີ່ຈະດໍາເນີນການຕໍ່ໄປ
ການທົດລອງຕົວແທນ
ຢືນຢັນຂະບວນການທີ່ມີສ່ວນທີ່ແທ້ຈິງແລະການໂຫຼດ
ຫຼັກຖານການທົດລອງຄວນກວມເອົາການຜະລິດປົກກະຕິແລະເງື່ອນໄຂທີ່ຄາດວ່າຈະຍາກທີ່ສຸດ.
- ອະທິບາຍພາກສ່ວນ, ວັດສະດຸແລະການປົນເປື້ອນ.
- ໂຫຼດໃຊ້ໄລຍະຫ່າງ ແລະທິດທາງຕົວຈິງ.
- ການທົດສອບບັນທຶກເຄມີ, ເວລາແລະອຸນຫະພູມ.
- ຢືນຢັນກວດກາດ້ວຍວິທີການຕົກລົງ.
ຄໍາຖາມຄໍາຮ້ອງສະຫມັກ
ການວາງແຜນການສຶກສາທໍາຄວາມສະອາດ
ລວມເອົາຊິ້ນສ່ວນການຜະລິດປົກກະຕິແລະເລຂາຄະນິດທີ່ຄາດໄວ້ຍາກທີ່ສຸດຫຼືການປົນເປື້ອນດັ່ງນັ້ນຂະບວນການບໍ່ໄດ້ອີງໃສ່ຕົວຢ່າງທີ່ງ່າຍດາຍ.
ສະຫນອງຂະຫນາດສ່ວນ, ວັດສະດຸ, ດິນ, ເປົ້າຫມາຍຄວາມສະອາດ, ຊິ້ນສ່ວນຕໍ່ການໂຫຼດ, ຜົນຜະລິດທີ່ຕ້ອງການແລະສິ່ງອໍານວຍຄວາມສະດວກທີ່ມີຢູ່.
ຄວາມຖີ່ທີ່ສູງກວ່າ, ອ່ອນໂຍນແມ່ນເປັນທີ່ມັກສໍາລັບອະນຸພາກອັນດີ ແລະພື້ນຜິວທີ່ລະອຽດອ່ອນ, ໃນຂະນະທີ່ການກວາດ ແລະ degas ສະຫນັບສະຫນູນເຖິງແມ່ນ cavitation; ການຕັ້ງຄ່າທີ່ແນ່ນອນແມ່ນກົງກັບພາກສ່ວນ.
ອຸປະກອນນີ້ແມ່ນມຸ້ງໄປຫາບັນທຸກ, fixtures, ເຄື່ອງມືແລະພາກສ່ວນທີ່ເຫມາະສົມ; ການທໍາຄວາມສະອາດ wafer ໂດຍກົງຮຽກຮ້ອງໃຫ້ມີຂະບວນການ semiconductor ຈຸດປະສົງສະເພາະທີ່ຢູ່ນອກອຸປະກອນທົ່ວໄປນີ້.
ໂດຍຜ່ານການ rinsing ຄວບຄຸມ, ການຕາກແຫ້ງສໍາເລັດແລະການຈັດການໃນສະພາບແວດລ້ອມທີ່ຄວບຄຸມ, ມີການຕົກລົງເຫັນດີແລະການຈັດການຕົວຢ່າງ.
ຄໍາຮ້ອງສະຫມັກທີ່ກ່ຽວຂ້ອງ
ສຳຫຼວດບ່ອນເຮັດວຽກທີ່ຢູ່ໃກ້ຄຽງ
ຄໍາຮ້ອງສະຫມັກອຸດສາຫະກໍາ
ເອເລັກໂຕຣນິກ & PCB ທໍາຄວາມສະອາດ Ultrasonic
ການທໍາຄວາມສະອາດ Ultrasonic ເອົາ flux, rosin ແລະ ionic residues ຈາກແຜ່ນວົງຈອນພິມແລະສະພາແຫ່ງເອເລັກໂຕຣນິກ, ມີຄວາມຖີ່ການຄວບຄຸມແລະເຄມີທີ່ເຂົ້າກັນໄດ້.
ເບິ່ງວິທີການທໍາຄວາມສະອາດ
ຄໍາຮ້ອງສະຫມັກອຸດສາຫະກໍາ
Optics & Lenses ທໍາຄວາມສະອາດ Ultrasonic
ການທໍາຄວາມສະອາດ ultrasonic ອ່ອນໂຍນເອົາສານຂັດຂັດ, ອະນຸພາກແລະລາຍນິ້ວມືຈາກອົງປະກອບ optical ໂດຍບໍ່ມີການ scratching ດ້ານເຄືອບ.
ເບິ່ງວິທີການທໍາຄວາມສະອາດ ຄໍາຮ້ອງສະຫມັກອຸດສາຫະກໍາ
ການເຮັດຄວາມສະອາດອົງປະກອບຄວາມຊັດເຈນ
ການທໍາຄວາມສະອາດຄວາມຊັດເຈນແມ່ນຖືກຄວບຄຸມໂດຍຂະຫນາດຂອງອະນຸພາກ, ຄວາມອ່ອນໄຫວຂອງພື້ນຜິວ, ຄຸນນະພາບການລ້າງ, ສະພາບອາບນ້ໍາແລະການຈັດການຫຼັງຈາກການລ້າງ.
ເບິ່ງວິທີການທໍາຄວາມສະອາດ