ເຄື່ອງເຮັດຄວາມສະອາດ Benchtop
Dual-Frequency / Multi-Frequency Benchtop ເຄື່ອງເຮັດຄວາມສະອາດ Ultrasonic
ລະດັບ benchtop 6.5-45 L ທີ່ມີສອງໂຫມດຄວາມຖີ່ ultrasonic ເຕັມພະລັງງານທີ່ສາມາດເລືອກໄດ້ສໍາລັບການເຮັດຄວາມສະອາດຫຍາບແລະດີໃນຫນຶ່ງອາບນ້ໍາ.
ເບິ່ງການຕັ້ງຄ່າ
LENJEX ທໍາຄວາມສະອາດອຸດສາຫະກໍາ
ການທໍາຄວາມສະອາດ ultrasonic ອ່ອນໂຍນເອົາສານຂັດຂັດ, ອະນຸພາກແລະລາຍນິ້ວມືຈາກອົງປະກອບ optical ໂດຍບໍ່ມີການ scratching ດ້ານເຄືອບ.
ເປັນຫຍັງ Ultrasonic
ອົງປະກອບຂອງ optical ປະຕິບັດການຂັດ, ອະນຸພາກອັນດີ, pitch ແລະ fingerprints ຫຼັງຈາກ grinding, polishing ແລະການຈັດການ. ການທໍາຄວາມສະອາດ ultrasonic ຄວາມຖີ່ສູງທີ່ອ່ອນໂຍນໄປຮອດພື້ນຜິວໂຄ້ງແລະແຄມໂດຍບໍ່ມີການຕິດຕໍ່ຂອງເຊັດຄູ່ມື, ເຊິ່ງສາມາດຂູດການເຄືອບທີ່ລະອຽດອ່ອນ.
A ເຄື່ອງເຮັດຄວາມສະອາດສອງຄວາມຖີ່ ຫຼື ເຄື່ອງເຮັດຄວາມສະອາດຫ້ອງທົດລອງ ກັບ sweep ແລະ degas ແມ່ນຖືກນໍາໃຊ້ທົ່ວໄປ, ມີເຄມີທີ່ເປັນກາງຫຼືເຂົ້າກັນໄດ້. ວຽກງານແມ່ນກ່ຽວຂ້ອງກັບ ການທໍາຄວາມສະອາດຄວາມຊັດເຈນຂອງຫ້ອງ ແລະ ການເຮັດຄວາມສະອາດພາກສ່ວນ semiconductor.
ຄວາມເຂົ້າກັນໄດ້ແລະຄວາມຖີ່ຂອງການເຄືອບຕ້ອງໄດ້ຮັບການກວດສອບກັບອົງປະກອບຕົວແທນກ່ອນທີ່ຈະຜະລິດ.

Workpieces ປົກກະຕິ
ການປົນເປື້ອນ

ເປົ້າໝາຍຄວາມສະອາດ
ການຍອມຮັບແມ່ນອີງໃສ່ການກວດສອບດ້ວຍສາຍຕາຫຼືຂະຫຍາຍສໍາລັບອະນຸພາກ, haze, smears ແລະຄວາມສົມບູນຂອງການເຄືອບ.
ການອົບແຫ້ງຕ້ອງບໍ່ມີຮອຍຂີດຂ່ວນ ແລະເໝາະສົມກັບພື້ນຜິວທີ່ເຄືອບ.
ລໍາດັບທີ່ແນະນໍາ
ລໍາດັບສຸດທ້າຍແມ່ນຂຶ້ນກັບການໂຫຼດດິນ, ວັດສະດຸ, ຄຸນນະພາບການລ້າງແລະພຶດຕິກໍາການແຫ້ງ.
ອຸປະກອນທີ່ແນະນໍາ
ຂໍ້ກໍາຫນົດສຸດທ້າຍປະຕິບັດຕາມການທົດສອບຂະບວນການແລະການວິເຄາະການຜະລິດ.
ເຄື່ອງເຮັດຄວາມສະອາດ Benchtop
ລະດັບ benchtop 6.5-45 L ທີ່ມີສອງໂຫມດຄວາມຖີ່ ultrasonic ເຕັມພະລັງງານທີ່ສາມາດເລືອກໄດ້ສໍາລັບການເຮັດຄວາມສະອາດຫຍາບແລະດີໃນຫນຶ່ງອາບນ້ໍາ.
ເບິ່ງການຕັ້ງຄ່າ
Benchtop & ຫ້ອງທົດລອງ Ultrasonic Cleaners
ຫ້ອງທົດລອງວິທະຍາສາດອາບນ້ໍາ ultrasonic ກັບ degas, sweep ແລະການຄວບຄຸມທີ່ຊັດເຈນ
ເບິ່ງການຕັ້ງຄ່າ
Benchtop & ຫ້ອງທົດລອງ Ultrasonic Cleaners
ເຄື່ອງເຮັດຄວາມສະອາດ ultrasonic tabletop ຂະຫນາດນ້ອຍຈາກ 2 ຫາ 30 ລິດ
ເບິ່ງການຕັ້ງຄ່າການຄວບຄຸມຂະບວນການ
ຢືນຢັນສ່ວນ, ດິນ, ການໂຫຼດແລະການຈັດການສຸດທ້າຍກ່ອນທີ່ຈະແກ້ໄຂການຕັ້ງຄ່າອຸປະກອນ.
ຄວບຄຸມ 01
ບັນທຶກພື້ນຜິວ, ຢູ່ຕາມໂກນ ແລະ ລັກສະນະທີ່ສາມາດຈັ່ນຈັບອາກາດ ຫຼື ຂອງແຫຼວໄດ້.
ຄວບຄຸມ 02
ທົດສອບການປົນເປື້ອນຕົວແທນທີ່ຫນັກຫນ່ວງທີ່ສຸດ, ບໍ່ແມ່ນຕົວຢ່າງທີ່ເຫມາະສົມ.
ຄວບຄຸມ 03
ຮັກສາການເຂົ້າເຖິງສຽງແລະຊ່ອງຫວ່າງສ່ວນທີ່ສອດຄ່ອງກັບການຜະລິດ.
ຄວບຄຸມ 04
ຈັບຄູ່ການຈັດການທາງລຸ່ມກັບຄວາມສ່ຽງຕໍ່ການຕົກຄ້າງແລະການກັດກ່ອນ.
ການເລືອກລະບົບ
ການນັບຂັ້ນຕອນແລະອັດຕະໂນມັດປະຕິບັດຕາມຂະບວນການທີ່ຖືກຕ້ອງແລະຜົນຜະລິດທີ່ຕ້ອງການ.
ຊຸດ
ປຽບທຽບສໍາລັບການລ້າງທີ່ສຸມໃສ່ບ່ອນທີ່ rinsing ແລະການຕາກແຫ້ງໄດ້ຖືກຈັດການແຍກຕ່າງຫາກ.
ຫຼາຍຂັ້ນຕອນ
ເພີ່ມຂັ້ນຕອນທີ່ຄວບຄຸມໄດ້ເມື່ອການຂົນສົ່ງ ແລະເງື່ອນໄຂສຸດທ້າຍແມ່ນສໍາຄັນ.
ອັດຕະໂນມັດ
ປະເມີນອັດຕະໂນມັດໃນເວລາທີ່ຜົນຜະລິດ, ການຈັດການຫຼືການຄວບຄຸມສູດຕ້ອງການມັນ.
ການຍອມຮັບ
ໃຊ້ວິທີການກວດກາການປະຕິບັດດຽວກັນສໍາລັບຕົວຢ່າງການທົດລອງແລະພາກສ່ວນການຜະລິດ.
ການທົດລອງຕົວແທນ
ຫຼັກຖານການທົດລອງຄວນກວມເອົາການຜະລິດປົກກະຕິແລະເງື່ອນໄຂທີ່ຄາດວ່າຈະຍາກທີ່ສຸດ.
ຄໍາຖາມຄໍາຮ້ອງສະຫມັກ
ລວມເອົາຊິ້ນສ່ວນການຜະລິດປົກກະຕິແລະເລຂາຄະນິດທີ່ຄາດໄວ້ຍາກທີ່ສຸດຫຼືການປົນເປື້ອນດັ່ງນັ້ນຂະບວນການບໍ່ໄດ້ອີງໃສ່ຕົວຢ່າງທີ່ງ່າຍດາຍ.
ສະຫນອງຂະຫນາດສ່ວນ, ວັດສະດຸ, ດິນ, ເປົ້າຫມາຍຄວາມສະອາດ, ຊິ້ນສ່ວນຕໍ່ການໂຫຼດ, ຜົນຜະລິດທີ່ຕ້ອງການແລະສິ່ງອໍານວຍຄວາມສະດວກທີ່ມີຢູ່.
ມັນສາມາດເຮັດໄດ້ຖ້າຫາກວ່າຄວາມຖີ່ຫຼືເຄມີແມ່ນຮຸກຮານເກີນໄປ. LENJEX ກວດສອບອົງປະກອບທີ່ເຄືອບດ້ວຍພາກສ່ວນຕົວແທນເພື່ອຢືນຢັນການທໍາຄວາມສະອາດທີ່ອ່ອນໂຍນ, ບໍ່ເປັນອັນຕະລາຍ.
ຄວາມຖີ່ທີ່ສູງກວ່າ, ອ່ອນໂຍນແມ່ນຖືກນໍາໃຊ້ໂດຍທົ່ວໄປສໍາລັບອົງປະກອບ optical, ມີ sweep ແລະ degas ເພື່ອຮັບປະກັນແມ້ກະທັ້ງ cavitation.
ໂດຍຜ່ານການ rinsing ຄວບຄຸມ, ເຄມີທີ່ເຂົ້າກັນໄດ້ແລະການແຫ້ງທີ່ເຫມາະສົມ, ຈັບຄູ່ກັບການເຄືອບແລະເລຂາຄະນິດອົງປະກອບ.
ຄໍາຮ້ອງສະຫມັກທີ່ກ່ຽວຂ້ອງ
ຄໍາຮ້ອງສະຫມັກອຸດສາຫະກໍາ
ການເຮັດຄວາມສະອາດຢ່າງອ່ອນໂຍນ, ຄວບຄຸມຂອງພາກສ່ວນ semiconductor, ຜູ້ໃຫ້ບໍລິການແລະເຄື່ອງມື, ບ່ອນທີ່ອະນຸພາກອັນດີງາມແລະຄວາມສົມບູນຂອງພື້ນຜິວແມ່ນສໍາຄັນ.
ເບິ່ງວິທີການທໍາຄວາມສະອາດ
ຄໍາຮ້ອງສະຫມັກອຸດສາຫະກໍາ
ເຮັດຄວາມສະອາດອົງປະກອບແກ້ວ, vials, ຂວດແລະຖັງຂະຫນາດນ້ອຍ, ລວມທັງພາຍໃນແລະຄໍແຄບ, ໂດຍບໍ່ມີການຂູດ.
ເບິ່ງວິທີການທໍາຄວາມສະອາດ
ຄໍາຮ້ອງສະຫມັກອຸດສາຫະກໍາ
ການທໍາຄວາມສະອາດຄວາມຊັດເຈນແມ່ນຖືກຄວບຄຸມໂດຍຂະຫນາດຂອງອະນຸພາກ, ຄວາມອ່ອນໄຫວຂອງພື້ນຜິວ, ຄຸນນະພາບການລ້າງ, ສະພາບອາບນ້ໍາແລະການຈັດການຫຼັງຈາກການລ້າງ.
ເບິ່ງວິທີການທໍາຄວາມສະອາດ