Ultraheli puhastuslahused ja -pesuvahendid tööstuslikud seadmed

LENJEX Tööstuslik puhastus

Sukelmuundurid ja varuosad

Valik ultraheli puhastuslahuseid ja -pesuvahendeid, mis on sobitatud saastumise ja materjaliga.

Sukelmuundurid ja varuosad

Ultrahelipuhastuslahused ja -pesuvahendid

Veepõhised ja spetsiaalsed ultrahelipuhastusvahendid ja -kemikaalid

The ultraheli puhastuslahus on protsessi võtmeosa: kavitatsioon varustab mehaanilist energiat, pesuaine aga keemiat, mis tõstab õli, rasva, osakesi, oksiide ja jääke. LENJEX pakub leeliselisi, neutraalseid, happelisi ja spetsiaalseid koostisi veepõhistele vannidele.

Õige keemia valimine on kesksel kohal veepõhine puhastus ja rasvaärastus; valik vaadatakse läbi materjali ja saastumise suhtes, nagu on kirjeldatud lahendustüüpide juhend ja vedeliku valiku juhend.

Kontsentratsioon, temperatuur, vanni kasutusiga ja ühilduvus on esitatud iga koostise jaoks ning neid kontrollitakse proovipuhastuse käigus.

TüübidAluseline / neutraalne / happeline
AlusVeepõhised kontsentraadid
KasutaLahjendatud soovitusliku protsendini
ValikMaterjali ja pinnase järgi

Põhifunktsioonid

Põhifunktsioonid ja süsteemivalikud

Selle seadme ehitus, juhtnupud ja protsessivalikud.

01

Sukelmuundurid ja varuosad

Ultrahelipuhastuslahused ja -pesuvahendid

  1. 01
    Leeliselised puhastusvahendid

    Üldotstarbeline tööhobune õli, rasva, süsiniku ja üldise pinnase jaoks.

  2. 02
    Neutraalsed puhastusvahendid

    Õrn puhastus tundlike sulamite ja kerge saaste korral.

  3. 03
    Happelised puhastusvahendid

    Eemaldage valitud metallidelt rooste-, katlakivi- ja oksiidkiled.

  4. 04
    Spetsiaalsed preparaadid

    Ensümaatilised, defluks- ja muud otstarbekohased keemiad.

  5. 05
    Kontsentreeritud vedelikud

    Tarnitakse kontsentreeritult ja soovitatud protsendini lahjendatult.

  6. 06
    Rooste inhibiitor

    Lisandid kaitsevad pärast puhastamist musti osi.

  7. 07
    Materjalide ühilduvus

    Alumiiniumi, vase ja muude sulamite koostised vaadatakse üle.

  8. 08
    Vannijuhend

    Pakutakse kontsentratsiooni, temperatuuri ja elujuhiseid.

TüüppHParim jaoksTüüpiline TempTüüpiline kontsentratsioonVanni elu
Aluseline üld10-12Õli, määre, süsinik50-60 C3-5%1-2 nädalat
Neutraalne7-9Tundlikud sulamid, kerge pinnas40-55 C2-5%1-2 nädalat
Happeline2-6Rooste, katlakivi, oksiid30-50 C3-10%Protsessi järgi
De-flux8-10PCB ja elektroonika35-50 C2-5%1-2 nädalat
Ensümaatiline7-9Bioloogiline pinnas35-50 C2-5%Protsessi järgi

Täpsed koostised, ohutusandmed ja ühilduvus on esitatud rakenduse kohta. Lahustid ja süsivesinikud on loetletud eraldi.

Rakendused

Tüüpilised rakendused

Selle ultrahelipuhastuslahuse tavalised toorikud, saastetüübid ja protsessi kasutusalad.

01

Ultrahelipuhastuslahused ja -pesuvahendid

Seadmete rakenduste partii ja töötlemine.

01

Üldine rasvaärastus

Leeliselised puhastusvahendid igapäevaste õlide ja rasvade puhastamiseks.

02

Töödeldud osad

Lõikab läbi lõikevedeliku ja laastud.

03

Templiga osad

Eemaldab tõmbamis- ja roostevastase õli.

04

PCB ja elektroonika

Lahustid kampoli ja jääkainete jaoks.

05

Rooste ja oksiid

Happelised puhastusvahendid katlakivi ja oksüdatsiooni eemaldamiseks.

06

Meditsiiniline ja hambaravi

Valitud ensümaatiline ja instrumentaalkeemia.

07

Optiline töö

Õrnad neutraalsed puhastusvahendid õrnade osade jaoks.

08

Plastosad

Kerge keemia hallitust vabastava aine jaoks.

09

Pinna ettevalmistamine

Tagab katmiseks puhta pinna.

Konfiguratsiooni valikud

Seadistage süsteem oma protsessi jaoks

Paagi mõõtmed, utiliidid, automatiseerimine ja protsessisätted on lõplikult määratud rakenduse ümber.

  • Saastumine ja materjal
  • Sulami ühilduvus ja temperatuur
  • Nõutav kontsentratsioon ja vanni eluiga
  • Loputus ja jäätmekäitlus
  • Ohutusandmed
TüübidAluseline, neutraalne, happeline, eriline
AlusVeepõhised kontsentraadid
ValikMaterjali ja saastumise tõttu
TemperatuurTavaliselt 35-60 C
Keskendumine2-10% olenevalt tüübist

Toote küsimused

Enne selle seadme valimist

Seotud seadmed

Võrrelge sama tooteperekonda

Enne puhastusprotsessi parandamist vaadake üle külgnevad konfiguratsioonid.