מנקי ספסלים
מנקה אולטראסוני דיגיטלי לניקוי מעבדה ומנות קטנות
טווח ספסל מקצועי של 2-45 ל' עם בקרת זמן, טמפרטורה והספק דיגיטליים לשימוש במעבדה, בסדנה ובאצווה קטנה.
הצג את התצורה
מרכז הפתרונות של LENJEX
מסיר שטף, רוזין ושאריות יוניות מלוחות מעגלים מולחמים עם תדר מבוקר וכימיה תואמת.
סקירה כללית
שאריות שטף משפיעות על האמינות.
לאחר הלחמה, שטף ורוזין עלולים להשאיר סרטים גלויים ושאריות יוניות הגורמים לקורוזיה, דליפה והדבקה לקויה של ציפוי. ניקוי אולטראסוני מגיע מתחת לרכיבים ובין לידים כדי להסיר שאריות אלה באופן עקבי.
דה-פלוקס תואם פתרון ניקוי ואנרגיה מבוקרת מגנים על המכלול, ולאחר מכן ייבוש מלא. ראה אלקטרוניקה וניקוי PCB.
שיקולי תהליכים
תחילה כימיה ותאימות רכיבים.
רוזין, שטפים לא נקיים ומסיסים במים משאירים שאריות שונות.
נבחר כימיה דה-פלוקס או ממס תואם עבור השטף והלוח.
התדר, האנרגיה והחשיפה נשלטים כדי להגן על רכיבים רגישים.
ייבוש מלא מסיר לחות מתחת לרכיבים לפני הציפוי.
מסלול מומלץ
מאומת עם הלוח בפועל.
מערכות קשורות
מערכות משטח קומפקטיות.
מנקי ספסלים
טווח ספסל מקצועי של 2-45 ל' עם בקרת זמן, טמפרטורה והספק דיגיטליים לשימוש במעבדה, בסדנה ובאצווה קטנה.
הצג את התצורה
חומרי ניקוי אולטרסאונדים למעבדה
אמבט קולי במעבדה מדעית עם דה-גז, סוויפ ובקרה מדויקת
הצג את התצורה
תעשייתי יחיד טנק וחומרי ניקוי מיוחדים
ניקוי וייבוש בוואקום קולי אטום עם פחמימנים או ממס אלכוהול שונה
הצג את התצורהשאלות פתרון
כֵּן. Controlled cavitation with de-flux chemistry removes rosin and ionic residues under components, followed by complete drying.
דה-פלוקס על בסיס מים נפוץ; solvent or vacuum systems are used where water is unsuitable or drying is difficult.
האנרגיה והתדר נשלטים והתאימות מאומתת עם הלוח בפועל לפני הייצור.
פתרונות קשורים
פתרון ניקוי
ניקוי מבוקר בתדירות גבוהה עבור חלקים מדויקים בסביבות נקיות, עם מגבלות חלקיקים וטיפול מאומת.
צפה בפתרון
פתרון ניקוי
השטיפה מסירה חומרי ניקוי וחלקיקים, והייבוש מונע סימני מים וקורוזיה, בעיקר בחללים ובחורים עיוורים.
צפה בפתרון
פתרון ניקוי
ניקוי קולי על בסיס מים משתמש בחומרי ניקוי בסיסיים, ניטרליים או חומציים להסרת שמן, חלקיקים ותחמוצות עם כימיה מבוקרת.
צפה בפתרון