Pulitori ultrasuoni da banco è da laboratorio
Pulitore ultrasonicu di laboratoriu cù Degas & Sweep
Bagnu ultrasonicu di laboratoriu scientificu cù degas, spazzata è cuntrollu precisu
Vede a cunfigurazione
Pulizia industriale LENJEX
Pulizia delicata è cuntrullata di parti di semiconduttori, trasportatori è utensili, induve e particelle fini è l'integrità di a superficia sò critichi.
Perchè Ultrasonic
A fabricazione di semiconduttori è i so arnesi necessitanu un cuntrollu di particelle assai fine è una energia dolce per prutegge e superfici. A pulizia ultrasonica cuntrullata di frequenza più alta elimina particelle fini è residui da i trasportatori, apparecchi è parti cumpatibili senza a forte implosione di un bagnu di bassa frequenza.
U pulitore ultrasonicu di laboratoriu, cù degas è spazza, è u pulitore multifrequenza sò usati per sti travaglii; a frequenza è a chimica sò rivista cù cura. U travagliu riguarda pulizia di precisione di stanza bianca è cuntrollu di pulizia di precisione.
A cumpatibilità, i limiti di particelle è a manipulazione in un ambiente cuntrullatu sò cunfirmati prima di specificazione di l'equipaggiu.

Pezzi tipici
Cuntaminazione

Target di pulizia
L'accettazione hè basatu annantu à u conte di particelle è l'ispezione di a superficia adattata à l'ambiente cuntrullatu.
A manipulazione, u risciacquamentu è l'asciugatura sò gestiti per evità a recontaminazione dopu a pulizia.
Sequenza cunsigliata
A sequenza finale dipende da a carica di terra, u materiale, a qualità di risciacquare è u cumpurtamentu di l'asciugatura.
Equipamentu cunsigliatu
A specificazione finale seguita a prova di prucessu è l'analisi di produzzione.
Pulitori ultrasuoni da banco è da laboratorio
Bagnu ultrasonicu di laboratoriu scientificu cù degas, spazzata è cuntrollu precisu
Vede a cunfigurazione
Pulizie da banco
Una gamma di bancone da 6,5 à 45 L cù dui modi selezziunati di frequenza ultrasonica piena di putenza per una pulizia grossa è fina in un bagnu.
Vede a cunfigurazione
Sistemi di pulizia automatica è multi-tank
Sistema di lavaggio, risciacquo e asciugatura ultrasonico compatto multi-stadi
Vede a cunfigurazioneCuntrolli di prucessu
Cunfirmà a parte, a terra, a carica è a manipulazione finale prima di riparà i paràmetri di l'equipaggiu.
cuntrollu 01
Registrate superfici, cavità è caratteristiche chì ponu intrappulà l'aria o u liquidu.
Cuntrolla 02
Pruvate a contaminazione rappresentativa più pesante, micca una mostra ideale.
cuntrollu 03
Mantene l'accessu acusticu è u spaziu di parti coherente cù a produzzione.
cuntrollu 04
Aduprate a manipulazione in aval à i risichi di residui è di corrosione.
Selezzione di u sistema
U conte di tappe è l'automatizazione seguitanu u prucessu validatu è u risultatu necessariu.
Batch
Comparare per lavare focalizatu induve u risciacamentu è l'asciugatura sò gestiti separatamente.
Multi-stadi
Aghjunghjite tappe cuntrullate quandu u trasportu è a cundizione finale importa.
autumàticu
Evaluate l'automatizazione quandu l'output, a manipulazione o u cuntrollu di ricetta ne precisa.
Acceptazione
Aduprate u stessu metudu di ispezione praticu per i campioni di prova è e parti di produzzione.
Prucessu rappresentativu
L'evidenza di prova deve copre a produzzione normale è a cundizione più difficiuli prevista.
Domande d'applicazione
Includite e parti di produzzione normale è a geometria o a contaminazione prevista più difficiuli per quessa chì u prucessu ùn hè micca basatu nantu à una mostra faciule.
Fornite dimensioni di parte, materiale, terra, destinazione di pulizia, parti per carica, output necessariu è utilità dispunibili.
I frequenzi più alti è più gentili sò preferiti per particeddi fini è superfici sensittivi, mentre chì l'sweep è degas sustene ancu a cavitazione; the exact setting is matched to the part.
Stu equipamentu hè diretta à i trasportatori, l'attrezzi, l'attrezzi è e parti cumpatibili; a pulizia diretta di wafer richiede prucessi di semiconductor specifichi per u scopu chì sò fora di stu equipamentu generale.
Attraversu un risciacamentu cuntrullatu, l'asciugatura cumpleta è a manipulazione in un ambiente cuntrullatu, cù l'ispezione accunsentita è a manipulazione di campioni.
Applicazioni Related
Applicazione industriale
A pulizia ultrasonica elimina u flussu, a colofonia è i residui ionici da i circuiti stampati è l'assemblee elettroniche, cù una frequenza cuntrullata è una chimica cumpatibile.
Vede l'approcciu di pulizia
Applicazione industriale
A pulizia ultrasonica delicata elimina u compostu di lucidatura, particelle è impronte digitali da i cumpunenti ottici senza graffià e superfici rivestite.
Vede l'approcciu di pulizia
Applicazione industriale
A pulizia di precisione hè cuntrullata da a dimensione di particella, a sensibilità di a superficia, a qualità di risciacquare, a cundizione di u bagnu è a manipulazione dopu u lavatu.
Vede l'approcciu di pulizia